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1. (WO2004031816) LASER SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/031816    International Application No.:    PCT/GB2003/004360
Publication Date: 15.04.2004 International Filing Date: 03.10.2003
IPC:
G01B 9/02 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01)
Applicants: RENISHAW PLC [GB/GB]; New Mills, Wotton-under-Edge, Gloucestershire GL12 8JR (GB) (For All Designated States Except US).
CHAPMAN, Mark, Adrian, Vincent [GB/GB]; (GB) (For US Only).
LEE, William, Ernest [GB/GB]; (GB) (For US Only).
LIAO, Tingdi [CN/GB]; (GB) (For US Only)
Inventors: CHAPMAN, Mark, Adrian, Vincent; (GB).
LEE, William, Ernest; (GB).
LIAO, Tingdi; (GB)
Agent: FOWLER, Maria, Jayne; Renishaw plc, Patent Department, New Mills, Wotton-under-Edge, Gloucestershire GL12 8JR (GB)
Priority Data:
0222962.3 04.10.2002 GB
Title (EN) LASER SYSTEM
(FR) SYSTEME LASER
Abstract: front page image
(EN)A laser system and interferometer are disclosed comprising a laser source (10,51) for generating a laser beam (12,52), and first (16,36,57) and second (18,38,58) adjustable elements wherein the first (16,36,57) and second (18,38,58) adjustable elements have limited rotational motion so rotation of the first adjustable element causes deviation of a laser beam in one plane and rotation of the second adjustable element causes deviation in a second plane, and a laser beam (12,52) from the laser source (10,51) is oblique to a required beam direction (14,34,60) whereby rotation of the adjustable elements deviates the laser beam enabling alignment of the laser beam to the required beam direction. The adjustable elements may be rotatable through 90°. The first and second planes may be perpendicular to the required beam direction and to each other. At least one mirror (42,56) may be provided which can be angularly offset to the required beam direction.
(FR)L'invention concerne un système laser et un interféromètre comprenant une source laser (10, 51) permettant de produire un faisceau laser (12, 52); et un premier (16, 36, 57) et un deuxième (18, 38, 58) éléments ajustables pouvant effectuer un mouvement rotatif limité de façon que la rotation du premier élément ajustable entraîne la déviation d'un faisceau laser dans un premier plan, et que la rotation du deuxième élément ajustable entraîne la déviation d'un faisceau laser dans un deuxième plan; le faisceau laser (12, 52) provenant de la source laser (10, 51) étant oblique par rapport à une orientation requise de faisceau (14, 34, 60), la rotation des éléments ajustables faisant dévier le faisceau laser et permettant ainsi d'obtenir l'alignement du faisceau laser sur l'orientation requise de faisceau. Les éléments ajustables peut effectuer une rotation sur 90°. Le premier et le deuxième plan peuvent être perpendiculaires par rapport à l'orientation requise de faisceau et l'un par rapport à l'autre. Au moins un miroir (42, 56) peut être fourni, et peut être décalé angulairement par rapport à l'orientation requise de faisceau.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)