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1. (WO2004031437) COATING METHOD AND COATED ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/031437    International Application No.:    PCT/EP2003/010735
Publication Date: 15.04.2004 International Filing Date: 26.09.2003
Chapter 2 Demand Filed:    27.04.2004    
IPC:
C23C 16/02 (2006.01), C23C 16/27 (2006.01), C23C 30/00 (2006.01)
Applicants: CEMECON AG [DE/DE]; Adenauerstrasse 20B1, 52146 Würselen (DE) (For All Designated States Except US).
GUSSONE, Joachim [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LEMMER, Oliver [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BREIDT, Dirk [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: GUSSONE, Joachim; (DE).
LEMMER, Oliver; (DE).
BREIDT, Dirk; (DE)
Agent: WENZEL & KALKOFF; Flasskuhle 6, 58452 Witten (DE)
Priority Data:
102 45 300.4 27.09.2002 DE
Title (DE) BESCHICHTUNGSVERFAHREN UND BESCHICHTETER KÖRPER
(EN) COATING METHOD AND COATED ELEMENT
(FR) PROCEDE DE REVETEMENT ET CORPS AINSI REVETU
Abstract: front page image
(DE)Beschrieben wird ein Körper mit einem Hartmetall-Substrat (10) und einer Diamantschicht (30) sowie ein Verfahren zur Beschichtung eines Hartmetall-Substrats (10). Das Hartmetall-Substrat weist Hartstoffpartikel (20) und umgebendes Bindermaterial (22) auf. In einem ersten Bereich (24) intakten Hartmetalls sind die Hartstoffpartikel (20) von Bindermaterial (22) umgeben. Der Übergangsbereich des ersten Bereich (24) weist ein Tiefenprofil mit Vertiefungen (18) und Erhebungen (16) auf. Hierdurch ist die Diamantschicht (30) mit dem Substratmaterial (10) verklammert, wobei Teile der Diamantschicht (30) tiefer im Substrat (10) angeordnet sind als Erhebungen (16) des ersten Bereichs (24). Dies wird mit einem Vorbehandlungsverfahren erzielt, bei dem ein Hartmetall-Substrat (10) zunächst einem selektiven Ätzschritt zur Entfernung des Bindermaterials (22) unterworfen wird. Es bildet sich eine poröse Zone mit einem Tiefenprofil. Die Hartstoffpartikel in der porösen Zone (12) werden entweder durch Mikrostrahlen entfernt, oder in einem zweiten, WC-selektiven Ätzschritt entfernt. Schliesslich wird mit einem Co-selektiven Ätzschritt eine Cobaltanreicherung auf der Oberfläche entfernt und das Substrat (10) mittels CVD mit einer Diamantschicht beschichtet.
(EN)Disclosed are an element comprising a hard metal substrate (10) and a diamond layer (30), and a method for coating a hard metal substrate (10). Said hard metal substrate is provided with hard material particles (20) and surrounding binding material (22). The hard material particles (20) are surrounded by binding material (22) in a first area (24) comprising intact hard metal. The transition region of the first area (24) encompasses a deep profile having recesses (18) and elevations (16). The diamond layer (30) is braced with the substrate material (10) with the aid of said deep profile, portions of the diamond layer (30) being disposed deeper within the substrate (10) than elevations (16) of the first area (24). Said structure is obtained by means of a pretreatment process in which a hard metal substrate (10) is first subjected to selective etching in order to remove the binding material (22). A porous zone having a deep profile is formed. The hard material particles located within the porous zone (12) are removed by means of microbeams or a second, WC-selective etching step. A cobalt concentration on the surface is finally removed in a Co-selective etching step, and the substrate (10) is coated with a diamond layer by means of CVD.
(FR)L'invention se rapporte à un corps comprenant un substrat en métal dur (10) et une couche de diamant (30), ainsi qu'à un procédé permettant de revêtir un substrat en métal dur (10). Ce substrat en métal dur comprend des particules de matériau dur (20) ainsi qu'un liant (22) qui entoure ces dernières. Dans une première zone (24) de métal dur intacte, lesdites particules de matériau dur (20) sont entourées dudit liant (22). La zone de transition de cette première zone (24) présente un profil en relief comprenant des structures rentrantes (18) et des structures saillantes (16). Ainsi, la couche de diamant (30) et le matériau du substrat (10) sont fortement imbriqués l'un dans l'autre, et certaines parties de ladite couche de diamant (30) sont enfouies plus profondément dans le substrat (10) que ne le sont certaines structures saillantes (16) de ladite première zone (24). Cette configuration résulte d'un procédé de pré-traitement. Selon ce procédé, le substrat en métal dur (10) est d'abord soumis à une étape d'attaque sélective destinée à supprimer le liant (22), ce qui entraîne la formation d'une région poreuse présentant un profil en relief. Les particules de matériau dur se trouvant dans cette région poreuse (12) sont supprimées, soit au moyen de microfaisceaux, soit à l'aide d'une deuxième étape d'attaque à sélectivité CW. Enfin, une étape d'attaque à sélectivité Co permet de supprimer une concentration de cobalt sur la surface, et le substrat (10) est recouvert d'une couche de diamant par dépôt chimique en phase vapeur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)