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1. (WO2004030162) SYSTEM FOR ALTERNATELY PULSING ENERGY OF ACCELERATED ELECTRONS BOMBARDING A CONVERSION TARGET
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/030162    International Application No.:    PCT/US2003/030499
Publication Date: 08.04.2004 International Filing Date: 29.09.2003
IPC:
H05H 15/00 (2006.01)
Applicants: SCANTECH HOLDINGS, LLC [US/US]; 430 Tenth Street, N.W., Suite N-205, Atlanta, GA 30318 (US) (For All Designated States Except US).
ELYAN, Vladimir, V. [RU/RU]; (RU) (For US Only).
BEKHTEV, Boris, V. [RU/RU]; (RU) (For US Only).
BOWSER, Gary, F. [US/US]; (US) (For US Only).
SYCHEV, Boris, S. [RU/RU]; (RU) (For US Only).
UVAROV, Vitaly, A. [RU/RU]; (RU) (For US Only)
Inventors: ELYAN, Vladimir, V.; (RU).
BEKHTEV, Boris, V.; (RU).
BOWSER, Gary, F.; (US).
SYCHEV, Boris, S.; (RU).
UVAROV, Vitaly, A.; (RU)
Agent: COURSEY, R., Stevan; Troutman Sanders LLP, Suite 5200, 600 Peachtree Street, NE, Atlanta, GE 30308-2216 (US)
Priority Data:
60/414,263 27.09.2002 US
60/461,209 07.04.2003 US
Title (EN) SYSTEM FOR ALTERNATELY PULSING ENERGY OF ACCELERATED ELECTRONS BOMBARDING A CONVERSION TARGET
(FR) SYSTEME POUR EMETTRE ALTERNATIVEMENT DES IMPULSIONS D'ENERGIE D'ELECTRONS ACCELERES BOMBARDANT UNE CIBLE DE CONVERSION
Abstract: front page image
(EN)A RF linear electron accelerator system for generating a beam of accelerated electrons bunched in pulses having different energy spectra from pulse to pulse. The system is operable to generate a beam of high energy X-rays from such beam of accelerated electrons, using a conversion target (225), with pulses of the X-ray beam (112) having energy spectra which are different from X-ray pulse to X-ray pulse. Preferably, the pulses of the electron beam (222) have energy spectra which alternate from pulse to pulse and, correspondingly, the pulses of the X-ray beam (112) have energy spectra which alternate from pulse to pulse. Also preferably, the current of electrons injected into the system’s accelerating section (220) and the frequency of the pulse RF power supplied to the accelerating section (220) are changed in a synchronized manner to generate the electron beam (222). The system is employable in an inspection system (100) for discriminating materials present in containers by atomic numbers.
(FR)Système linéaire radiofréquence accélérateur d'électrons destiné à générer un faisceau d'électrons accélérés par bouquets d'impulsions, ces impulsions ayant de l'une à l'autre différents spectres d'énergie. Le système peut être utilisé pour générer un faisceau de rayons X de haute énergie à partir du faisceau d'électrons accélérés, à l'aide d'une cible de conversion, les impulsions du faisceau de rayons X ayant des spectres d'énergie différents d'une impulsion de rayons X à l'autre. De préférence, les impulsions du faisceau d'électrons ont des spectres d'énergie qui alternent d'une impulsion à l'autre et, de ce fait, les impulsions du faisceau de rayons X ont des spectres d'énergie qui alternent d'une impulsion à l'autre. De préférence également, le courant des électrons injectés dans la section d'accélération du système et la fréquence de la puissance hyperfréquence des impulsions fournie à la section d'accélération sont modifiés de manière synchronisée pour générer le faisceau d'électrons. Le système peut être utilisé dans un système de contrôle en vue de différencier par numéro atomique des matériaux présents dans des conteneurs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)