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1. (WO2004029037) NOVEL AROMATIC SULFONIUM SALT COMPOUND, PHOTO-ACID GENERATOR COMPRISING THE SAME AND PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME, RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL THREE-DIMENSIONAL SHAPING, AND METHOD OF OPTICALLY FORMING THREE-DIMENSIONAL SHAPE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/029037    International Application No.:    PCT/JP2003/012226
Publication Date: 08.04.2004 International Filing Date: 25.09.2003
IPC:
C07D 333/76 (2006.01), C08G 59/68 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/029 (2006.01)
Applicants: ASAHI DENKA CO.LTD. [JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 116-0012 (JP) (For All Designated States Except US).
NAKAYASHIKI, Tetsuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TACHIKAWA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAKAYASHIKI, Tetsuyuki; (JP).
TACHIKAWA, Hiroyuki; (JP)
Agent: HONDA, Ichiro; No.201, Kanda Chuo Building, 2F, 5-7, Nishikanda 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0065 (JP)
Priority Data:
2002-279416 25.09.2002 JP
2003-085426 26.03.2003 JP
Title (EN) NOVEL AROMATIC SULFONIUM SALT COMPOUND, PHOTO-ACID GENERATOR COMPRISING THE SAME AND PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME, RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL THREE-DIMENSIONAL SHAPING, AND METHOD OF OPTICALLY FORMING THREE-DIMENSIONAL SHAPE
(FR) NOUVEAU COMPOSE DE SEL DE SULFONIUM AROMATIQUE, GENERATEUR PHOTO-ACIDE LE COMPRENANT ET COMPOSITION PHOTOPOLYMERISABLE LE CONTENANT, COMPOSITION DE RESINE POUR LA MISE EN FORME TRIDIMENSIONNELLE OPTIQUE ET PROCEDE CORRESPONDANT
(JA) 新規な芳香族スルホニウム塩化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含む光重合性組成物、光学的立体造形用樹脂組成物並びに光学的立体造形法
Abstract: front page image
(EN)A novel aromatic sulfonium salt compound represented by the following general formula (I); (I) a photo-acid generator comprising the compound; and a photopolymerizable composition containing the compound. The photopolymerizable composition gives a resin composition for optical three-dimensional shaping. The resin composition suffers no curing inhibition caused by oxygen, has satisfactory precision of curing, is highly sensitive to irradiation energy, and cures sufficiently deep. The resin composition can be inhibited from generating benzene and is hence usable in a wide range of applications such as photoresists, inks for food-packaging materials, etc.
(FR)L'invention porte sur un nouveau composé de sel de sulfonium aromatique représenté par la formule générale (I) ; sur un générateur photo-acide comprenant le composé et sur une composition photopolymérisable contenant le composé. La composition photopolymérisable donne une composition de résine destinée à la mise en forme tridimensionnelle optique et n'est pas sujette au blocage su durcissement imputable à l'oxygène, a une précision de durcissement satisfaisante, est extrêmement sensible au rayonnement et durcit suffisamment profondément. On peut empêcher la composition de résine de générer du benzène et, par conséquent, peut être utilisée dans une large plage d'applications telles que les résine photosensibles, les encres pour les matériaux d'emballage des aliments, etc.
(JA)not available
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)