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1. (WO2004027520) ELECTRON BEAM IRRADIATION DEVICE, ELECTRON BEAM IRRADIATION METHOD, DISC-LIKE BODY MANUFACTURING APPARATUS, AND DISC-LIKE BODY MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/027520    International Application No.:    PCT/JP2003/011890
Publication Date: 01.04.2004 International Filing Date: 18.09.2003
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01)
Applicants: TDK CORPORATION [JP/JP]; 1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 103-8272 (JP) (For All Designated States Except US).
USAMI, Mamoru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANAKA, Kazushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YONEYAMA, Kenji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KANEKO, Yukio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
UMEGA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: USAMI, Mamoru; (JP).
TANAKA, Kazushi; (JP).
YONEYAMA, Kenji; (JP).
KANEKO, Yukio; (JP).
UMEGA, Takeshi; (JP)
Agent: TAMURA, Keijiro; 8th Floor, Masumoto Bldg., 4-3, Nishi-Shinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0023 (JP)
Priority Data:
2002-274120 19.09.2002 JP
2002-274121 19.09.2002 JP
Title (EN) ELECTRON BEAM IRRADIATION DEVICE, ELECTRON BEAM IRRADIATION METHOD, DISC-LIKE BODY MANUFACTURING APPARATUS, AND DISC-LIKE BODY MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE RAYONNEMENT DE FAISCEAU ELECTRONIQUE, PROCEDE DE RAYONNEMENT DE FAISCEAU ELECTRONIQUE, APPAREIL DE FABRICATION D'UN CORPS DE TYPE DISQUE, ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN CORPS DE TYPE DISQUE
(JA) 電子線照射装置、電子線照射方法、ディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法
Abstract: front page image
(EN)An electron beam irradiation device and method for readily curing a surface layer of a material hard to cure by ultraviolet irradiation and/or at least part of a resin layer such as a light-transmitting layer under the surface layer. A disc-like body manufacturing apparatus and method for manufacturing a disc-like body on which efficiently formed are a surface layer of a material hard to cure by ultraviolet irradiation and/or at least part of a resin layer such as a light-transmitting layer under the surface layer. The electron beam irradiation device (1) comprises a rotation drive section (17) for rotating a body (2) to be rotated, a shielded container (10) for containing the body rotatably, and an electron beam irradiation section (11) provided in the shielded container and adapted to irradiate an electron beam onto the surface of the body through an irradiation window (11a) while rotating the body. Thus, an electron beam having an energy greater than ultraviolet radiation is irradiated onto the surface of the rotating body efficiently.
(FR)L'invention concerne un dispositif de rayonnement de faisceau électronique et un procédé destiné à sécher rapidement une couche superficielle d'un matériau difficile à sécher au moyen de rayonnement ultraviolet et/ou au moins une partie d'une couche de résine telle qu'une couche à émission de lumière située sous la couche superficielle. L'invention concerne également un appareil et un procédé de fabrication d'un corps de type disque sur lequel a été déposée une couche superficielle de matériau difficile à sécher au moyen d'un rayonnement ultraviolet et/ou au moins une partie d'une couche de résine telle qu'une couche à émission de lumière située au dessous de la couche superficielle. Le dispositif de rayonnement de faisceau électronique (1) comprend un organe d'entraînement de rotation (17) destiné à mettre en rotation un corps (2) devant être mis en rotation, un conteneur protégé (10) destiné à contenir le corps de façon rotative, et un organe de rayonnement de faisceau électronique (11) placé dans le conteneur protégé et conçu de manière à appliquer un rayonnement de faisceau électronique sur la surface du corps à travers une fenêtre de rayonnement (11a) lors de la rotation du corps. Ainsi, un faisceau électronique possédant une énergie supérieure à celle du rayonnement ultraviolet est irradié sur la surface du corps en rotation de manière efficace.
(JA)紫外線照射では硬化が困難である材料による表面層及び/又はその下の光透過層等の樹脂層の少なくとも一部をも容易に硬化できる電子線照射装置及び電子線照射方法である。紫外線照射では硬化が困難である材料による表面層及び/又はその下の光透過層等の樹脂層の少なくとも一部をディスク状体上に効率よく形成できるようにしたディスク状体の製造装置及びディスク状体の製造方法である。電子線照射装置1は、被回転体2を回転駆動する回転駆動部17と、被回転体を回転可能に収容する遮蔽容器10と、被回転体の表面に対し電子線がその照射窓11aから照射されるように遮蔽容器に設けられた電子線照射部11とを具備し、被回転体の回転中にその表面に電子線照射部の照射窓から電子線を照射する。これにより、回転中の被回転体の表面に対し紫外線よりも大きなエネルギを有する電子線を効率よく照射できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)