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1. (WO2004008825) METHOD AND APPARATUS FOR REAL TIME MONITORING OF ELECTROPLATING BATH PERFORMANCE AND EARLY FAULT DETECTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/008825    International Application No.:    PCT/US2003/022614
Publication Date: 29.01.2004 International Filing Date: 16.07.2003
IPC:
C25D 21/12 (2006.01)
Applicants: TECHNIC, INC. [US/US]; 1 Spectacle Street, Cranston, RI 02910 (US).
WIKIEL, Kazimierz [US/US]; (US).
JAWORSKI, Aleksander [US/US]; (US).
WIKIEL, Hanna [US/US]; (US)
Inventors: WIKIEL, Kazimierz; (US).
JAWORSKI, Aleksander; (US).
WIKIEL, Hanna; (US)
Agent: LINEK, Ernest; Banner & Witcoff, Ltd., 28 State Street, 28th Floor, Boston, MA 02109 (US)
Priority Data:
60/397,133 19.07.2002 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR REAL TIME MONITORING OF ELECTROPLATING BATH PERFORMANCE AND EARLY FAULT DETECTION
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DESTINES A SURVEILLER EN TEMPS REEL L'EFFICACITE D'UN BAIN GALVANOPLASTIQUE ET DETECTION PRECOCE DES PANNES
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates generally to any plating solutions and methods for monitoring solution performance (2, 3). More specifically, the present invention relates to plating bath and methods for monitoring its plating functionality based upon chemometric analysis of voltammetric data obtained for these baths (4, 5, 6). More particularly, the method of the present invention relates to application of numerous chemometric techniques to describe quantitatively plating bath functionality in order to maintain its proper performance.
(FR)L'invention concerne, de façon générale, n'importe quel bain de dépôt galvanoplastique et des procédés destinés à surveiller leur efficacité. De manière plus spécifique, cette invention concerne un bain galvanoplastique et des procédés de surveillance de sa fonctionnalité galvanoplastique basée sur une analyse chimiométrique des données voltamétriques obtenues pour ces bains. Plus particulièrement, le procédé de l'invention concerne l'application de nombreuses techniques chimiométriques afin de décrire, de façon quantitative, la fonctionnalité du bain galvanoplastique de manière à ce qu'il conserve son efficacité propre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)