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1. (WO2004008254) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE FABRICATION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/008254    International Application No.:    PCT/JP2003/008784
Publication Date: 22.01.2004 International Filing Date: 10.07.2003
Chapter 2 Demand Filed:    30.01.2004    
IPC:
G02B 1/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 146-8501 (JP) (For All Designated States Except US).
YAMADA, Akihiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YAMADA, Akihiro; (JP)
Agent: FUJIMOTO, Ryosuke; FUJIMOTO PATENT OFFICE, Tokyo ST Bldg., 9th Fl., 9-4, Hatchobori 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 104-0032 (JP)
Priority Data:
2002-202320 11.07.2002 JP
Title (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE FABRICATION METHOD
(FR) SYSTEME DE PROJECTION OPTIQUE, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)A projection optical system includes a first optical element that orients an axis [1 1 1] as a crystal orientation in a cubic system crystal parallel to an optical axis, and a second optical element that orients an axis [1 0 0] as the crystal orientation in the cubic system crystal so that a minimum angle may be 30 or larger between the optical axis and an off-axis edge beam that passes through the second optical element, and a minimum angle may be 10 or smaller between the optical axis and an off-axis principal ray that passes through the second optical element.
(FR)Selon cette invention, un système de projection optique comprend un premier élément optique orientant un axe [1 1 1] qui est une orientation cristalline d'un système cubique parallèle à un axe optique, et un second élément optique orientant un axe [1 0 0] qui est une orientation cristalline du système cubique, de telle manière qu'un angle minimal peut être d'au moins 30° entre l'axe optique et un faisceau de bord hors axe qui passe à travers le second élément optique, et qu'un angle minimal peut être de 10° au maximum entre l'axe optique et un rayon principal hors axe qui passe à travers le second élément optique.
Designated States: CN, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)