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1. (WO2004007587) NOBONENE-ESTER BASED ADDITION POLYMER AND METHOD FOR PREPARING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/007587    International Application No.:    PCT/KR2003/001349
Publication Date: 22.01.2004 International Filing Date: 07.07.2003
IPC:
C08F 32/08 (2006.01), C08G 61/06 (2006.01), G02F 1/1362 (2006.01)
Applicants: LG CHEM, LTD. [KR/KR]; LG Twin Tower, Yoido-dong 20, Youngdungpo-ku, Seoul 150-721 (KR) (For All Designated States Except US).
CHUN, Sung-Ho [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KIM, Won-Kook [KR/KR]; (KR) (For US Only).
YOON, Sung-Cheol [KR/KR]; (KR) (For US Only).
LIM, Tae-Sun [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KIM, Heon [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KIM, Kyoung-Hoon [KR/KR]; (KR) (For US Only).
LEE, Jung-Min [KR/KR]; (KR) (For US Only).
PAIK, Kyung-Lim [KR/KR]; (KR) (For US Only).
AHN, Sang-Doo [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: CHUN, Sung-Ho; (KR).
KIM, Won-Kook; (KR).
YOON, Sung-Cheol; (KR).
LIM, Tae-Sun; (KR).
KIM, Heon; (KR).
KIM, Kyoung-Hoon; (KR).
LEE, Jung-Min; (KR).
PAIK, Kyung-Lim; (KR).
AHN, Sang-Doo; (KR)
Agent: YOU ME PATENT & LAW FIRM; Teheran Bldg., 825-33, Yoksam-dong, Kangnam-ku, Seoul 135-080 (KR)
Priority Data:
10-2002-0040044 10.07.2002 KR
10-2003-0041038 24.06.2003 KR
Title (EN) NOBONENE-ESTER BASED ADDITION POLYMER AND METHOD FOR PREPARING THE SAME
(FR) POLYMERE D'ADDITION A BASE D'ESTER DE NORBORNENE ET SON PROCEDE DE PREPARATION
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a norbornene based addition polymer, and more particularly to an addition polymer of norbornene based monomers containing an ester group. The present invention provides a norbornene-ester based addition polymer having a molecular weight (Mn) larger than 20,000 and comprising a norbornene-ester based monomer comprising more than 50 mol% of exo norbornene-ester monomer as a repeating unit, a method for preparing the same, and an optically anisotropic film comprising the same. The norbornene-ester based addition polymer of the present invention is transparent, has a low dielectric constant, has good thermal stability and strength, leaves no unwanted materials when attached to metals or other polymers, and has good adhesivity, so that it can be used for optical films, retardation films, plastic substrate materials, transparent polymers such as POF or PCB, insulating materials, or insulating electronic devices such as PCB or insulating materials.
(FR)La présente invention a trait à un polymère d'addition à base de norbornène, et plus particulièrement à un polymère d'addition de monomères à base de norbornène contenant un groupe ester. La présente invention propose un polymère d'addition à base d'ester de norbornène ayant un poids moléculaire (Mn) supérieur à 20,000 et comportant un monomère à base d'ester de norbornène comprenant plus de 50 % en pourcentage molaire de monomère d'ester de norbornène exo en tant qu'unités de répétition, son procédé de préparation, et un film optiquement anisotrope en comportant. Le polymère d'addition à base d'ester de norbornène de la présente invention est transparente, présente une faible constante diélectrique, une bonne résistance et stabilité à la chaleur, ne dégage pas de matériaux indésirables lorsqu'il est combiné avec des métaux ou d'autres polymères, et présente une bonne adhérence, de sorte qu'il puisse être utilisé pour des films optiques, des films à retard de longueur d'onde, des matériaux à substrat plastique, des polymères transparents tels que POF ou PCB, des matériaux isolants, ou des dispositifs électroniques d'isolation tels que PCB ou matériaux d'isolation.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Korean (KO)