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Pub. No.:    WO/2004/006365    International Application No.:    PCT/NL2003/000492
Publication Date: 15.01.2004 International Filing Date: 03.07.2003
Chapter 2 Demand Filed:    31.12.2003    
H01M 4/86 (2006.01), H01M 4/88 (2006.01), H01M 8/02 (2006.01)
Applicants: STICHTING ENERGIEONDERZOEK CENTRUM NEDERLAND [NL/NL]; Westerduinweg 3, NL-1755 LE Petten (NL) (For All Designated States Except US).
NAMMENSMA, Pieter [NL/NL]; (NL) (For US Only).
DE ROOY, Robert [NL/NL]; (NL) (For US Only).
BROERSEN, Bartholomeus, Cornelis [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: NAMMENSMA, Pieter; (NL).
DE ROOY, Robert; (NL).
BROERSEN, Bartholomeus, Cornelis; (NL)
Agent: VAN WESTENBRUGGE, Andries; Nederlandsch Octrooibureau, Scheveningseweg 82, P.O. Box 29720, NL-2502 LS The Hague (NL)
Priority Data:
1020985 03.07.2002 NL
Abstract: front page image
(EN)Anode-supported fuel cell, in particular SOFC, where stresses in the anode substrate are compensated for by a stress compensation layer. According to the invention said stress compensation layer is made porous by making a large number of vary small openings. These openings are preferably made hexagonal and the thickness of the walls between the openings is minor. An electron-conducting porous layer is applied to the stress compensation layer.
(FR)La présente invention se rapporte à une pile à combustible à support anodique, notamment à une pile de type SOFC, dans laquelle les contraintes à l'intérieur du substrat anodique sont compensées par une couche de compensation des contraintes. Conformément à l'invention, ladite couche de compensation des contraintes est rendue poreuse par la formation d'un grand nombre de très petites ouvertures. Ces ouvertures sont de préférence de forme hexagonale et l'épaisseur des parois entre les ouvertures est faible. Une couche poreuse électroniquement conductrice est appliquée sur la couche de compensation des contraintes.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Dutch; Flemish (NL)