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1. (WO2004006324) METHOD FOR MAKING AN ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM WITH POINTED CONDUCTIVE INSERTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/006324    International Application No.:    PCT/FR2003/002056
Publication Date: 15.01.2004 International Filing Date: 02.07.2003
Chapter 2 Demand Filed:    21.01.2004    
IPC:
H01L 21/48 (2006.01), H01L 21/60 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 31/33, rue de la Fédération, F-75752 PARIS 15ème (FR) (For All Designated States Except US).
BALERAS, François [FR/FR]; (FR) (For US Only).
RENARD, Pierre [FR/FR]; (FR) (For US Only).
ROSSAT, Cyrille [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: BALERAS, François; (FR).
RENARD, Pierre; (FR).
ROSSAT, Cyrille; (FR)
Agent: RICHARD, Patrick; c/o Brevatome, 3, rue du Docteur Lancereaux, F-75008 Paris (FR)
Priority Data:
02/08451 05.07.2002 FR
Title (EN) METHOD FOR MAKING AN ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM WITH POINTED CONDUCTIVE INSERTS
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE FILM CONDUCTEUR ANISOTROPE A INSERTS CONDUCTEURS POINTUS
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns a method for making an anisotropic conductive film with pointed conductive inserts. The method comprises engraving at least one pattern (C1, K1) in a monocrystalline substrate (15) to form at least one cell (22, 26) having a base designed to form the contour of one end of an insert (23, 27). The formation of the pattern is designed to reveal at least one tip projecting in the base of the cell during engraving of the pattern in a crystallographic plane (100) of the substrate with planes (111) or (110) limiting the pattern. The invention is applicable to microconnectics.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de film conducteur anisotrope à inserts conducteurs pointus. Le procédé comprend la gravure d'au moins un motif (C1, K1) dans un substrat monocristallin (15) pour former au moins une alvéole (22, 26) ayant un fond destiné à dessiner le contour d'une extrémité d'un insert (23, 27). Le dessin du motif est destiné à faire apparaître au moins une pointe faisant saillie dans le fond de l'alvéole lors de la gravure du motif selon le plan cristallographique (100) du substrat avec des plans limitants (111) ou (110) du motif. L'invention s'applique à la microconnectique.
Designated States: US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)