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1. (WO2004006297) LOW DIELECTRIC MATERIALS AND METHODS OF PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/006297    International Application No.:    PCT/US2003/018543
Publication Date: 15.01.2004 International Filing Date: 11.06.2003
Chapter 2 Demand Filed:    20.01.2004    
IPC:
B32B 5/16 (2006.01), C08J 9/28 (2006.01)
Applicants: HONEYWELL INTERNATIONAL INC. [US/US]; PO Box 2245, 101 Columbia Road, Morristown, NJ 07962 (US) (For All Designated States Except US).
MUKHERJEE, Shyama [US/US]; (US) (For US Only).
LEUNG, Roger [US/US]; (US) (For US Only).
LAU, Kreisler [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: MUKHERJEE, Shyama; (US).
LEUNG, Roger; (US).
LAU, Kreisler; (US)
Agent: THOMPSON, Sandra, P.; BINGHAM McCUTCHEN, 600 Anton Blvd., 18th Floor, Costa Mesa, CA 92626 (US)
Priority Data:
10/189,318 03.07.2002 US
Title (EN) LOW DIELECTRIC MATERIALS AND METHODS OF PRODUCING SAME
(FR) MATERIAUX A FAIBLE CONSTANTE DIELECTRIQUE ET PROCEDES DE PRODUCTION CORRESPONDANTS
Abstract: front page image
(EN)In accordance with the present invention, compositions and methods are provided in which the mechanical strength and durability of a precursor material having a plurality of pores is increased by a) providing a precursor material; b) treating the precursor material to form a nanoporous aerogel, preferably by using a supercritical drying process; c) providing a blending material having a reinforcing component and a volatile component; d) combining the nanoporous aerogel and the blending material to form an amalgamation layer; and e) treating the amalgamation layer to increase the mechanical strength of the layer by a substantial amount, and to ultimately form a low dielectric material that can be utilized in various applications.
(FR)La présente invention concerne des compositions et des procédés permettant d'obtenir un matériau précurseur comprenant une pluralité de pores et présentant une résistance mécanique et une durabilité supérieures. Ces procédés consistent a) à utiliser un matériau précurseur ; b) à traiter le matériau précurseur pour former un aérogel nanoporeux, de préférence par séchage supercritique ; c) à utiliser un matériau pour mélange renfermant un composant de renforcement et un composant volatile ; d) à mélanger l'aérogel nanoporeux et le matériau pour mélange afin de former une couche d'amalgamation ; et e) à traiter la couche d'amalgamation pour augmenter sensiblement la résistance mécanique de la couche et, enfin, pour former un matériau à faible constante diélectrique pouvant être utilisé dans diverses applications.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)