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1. (WO2004006023) COMPOSITION FOR ANTIREFLECTION COATING AND METHOD FOR FORMING PATTERN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/006023    International Application No.:    PCT/JP2003/008087
Publication Date: 15.01.2004 International Filing Date: 26.06.2003
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/09 (2006.01)
Applicants: AZ ELECTRONIC MATERIALS (JAPAN) K.K. [JP/JP]; Bunkyo Green Court, 28-8, Honkomagome 2-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 113-0021 (JP) (For All Designated States Except US).
AKIYAMA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKANO, Yusuke [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: AKIYAMA, Yasushi; (JP).
TAKANO, Yusuke; (JP)
Agent: KANAO, Hiroki; Mutsumi International Patent Bureau, Bandai Bldg., 10-14, Kandaawajicho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0063 (JP)
Priority Data:
2002-195582 04.07.2002 JP
Title (EN) COMPOSITION FOR ANTIREFLECTION COATING AND METHOD FOR FORMING PATTERN
(FR) COMPOSITION ANTIREFLECHISSANTE ET PROCEDE DE FORMATION DE MODELE
(JA) 反射防止コーティング用組成物およびパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)A composition for an antireflection coating which comprises an alkali-soluble fluorine containing polymer, an acid, an amine and a solvent capable of dissolving these chemicals and has a pH of 7 or less. The composition is applied on a chemical amplification photoresist to form an antireflection film. The resultant antireflection film is capable of preventing the multiple reflection within the photoresist film and also enhances the reduction of the thickness of the photoresist film occurring during the development using an alkaline solution after exposure, and thus allows the formation of a pattern having a cross section of a rectangular shape, not of a T-top or round top shape.
(FR)L'invention concerne un revêtement antiréfléchissant comprenant un polymère contenant du fluor soluble dans les alcalis, un acide, une amine et un solvant pouvant dissoudre ces agents chimiques, et possédant un pH de 7 ou moins. La composition s'applique sur une photorésine d'amplification chimique pour former un film antiréfléchissant. Le film antiréfléchissant obtenu peut prévenir une réflexion multiple dans le film à photorésine et favorise également la réduction de l'épaisseur du film à photorésine se produisant au cours du développement à l'aide d'une solution alcaline après son exposition, et permet ainsi la formation d'un modèle avec une section transversale de forme rectangulaire, et non avec une partie supérieure en forme de T ou de forme arrondie.
(JA) アルカリ可溶性フッ素系重合体、酸、アミン、およびこれらを溶解することのできる溶媒を含有するpH7以下の反射防止コーティング用組成物を化学増幅型フォトレジスト膜上に塗布し、反射防止膜を形成する。形成された反射防止膜により、フォトレジスト膜内の多重反射が防止できるとともに、露光後アルカリ現像液により現像する際フォトレジスト膜の膜減り量が増大し、レジストパターン断面形状がT−トップ、ラウンドトップなどでなく、矩形状のパターンとされる。
Designated States: CN, KR, SG, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)