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1. (WO2004006013) ARRANGEMENT FOR THE PRODUCTION OF PHOTOMASKS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/006013    International Application No.:    PCT/EP2003/007401
Publication Date: 15.01.2004 International Filing Date: 09.07.2003
IPC:
G03F 1/00 (2012.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMS GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Promenade 10, 07745 Jena (DE) (For All Designated States Except US).
CARL ZEISS NTS GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 56, 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
ENGEL, Thomas [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HARNISCH, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HOFFROGGE, Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ZIBOLD, Axel [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: ENGEL, Thomas; (DE).
HARNISCH, Wolfgang; (DE).
HOFFROGGE, Peter; (DE).
ZIBOLD, Axel; (DE)
Agent: HAMPE, Holger; Carl Zeiss SMS GMBH, Carl-Zeiss-Promenade 10, 07745 Jena (DE)
Priority Data:
102 30 755.5 09.07.2002 DE
Title (DE) ANORDNUNG ZUR HERSTELLUNG VON PHOTOMASKEN
(EN) ARRANGEMENT FOR THE PRODUCTION OF PHOTOMASKS
(FR) DISPOSITIF DE REALISATION DE PHOTOMASQUES
Abstract: front page image
(DE)Anordnung und Verfahren zur Herstellung von Photomasken, wobei mindestens ein Defektkontrollsystem über eine stehende Datenverbindung oder on-line Verbindung mit mindestens einem Reparatursystem verbunden ist und das Defektkontrollsystem und das Reparatursystem datenmässig so miteinander verbunden sind, dass die auf einem der Systeme gewonnen Ergebnisse auf dem anderen System zur Weiterverarbeitung unmittelbar zur Verfügung stehen, wobei das Defektkontrollsystem über eine Datenverbindung zum Datenaustausch ermittelte Defekte an das Reparatursystem weiterleitet, das den Reparaturvorgang anhand der ermittelten Defekte steuert, wobei vorteilhaft ein AIMS System als Defektkontrollsystem und ein Elektronenstrahlsystem zur Defektkontrolle vorgesehen ist.
(EN)The invention relates to an arrangement and method for the production of photomasks, whereby at least one defect control system is connected to at least one repair system via a stationary data link or an on-line link and the defect control system and the repair system are connected to each other data-wise in such a way that results obtained on one of the systems are directly available for reprocessing on the other system. The defect control system transmits defects, which are determined, to the repair system via a data link for data exchange. Said repair system controls the repair process according to the defects thus determined. An AIMS is advantageously provided as a defect control system, in addition to an electron beam system for defect control.
(FR)La présente invention concerne un dispositif et un procédé de réalisation de photomasques, au moins un système de détection de défauts étant relié à au moins un système de réparation par une liaison de données fixe ou une liaison en ligne, et le système de détection de défauts et le système de réparation étant reliés du point de vue des données de sorte que les résultats obtenus concernant l'un des systèmes sont directement à disposition de l'autre système pour traitement ultérieur. Selon l'invention, le système de détection de défauts transmet des défauts détectés par une liaison de données destinée à l'échange de données, au système de réparation qui commande le processus de réparation en fonction des défauts détectés, et l'invention présente l'avantage de comprendre un système AIMS en tant que système de détection de défauts et un système à faisceau d'électrons pour la détection des défauts.
Designated States: JP, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)