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1. (WO2004005982) MICROSTRUCTURING OF AN OPTICAL WAVEGUIDES FOR PRODUCING FUNCTIONAL OPTICAL ELEMENTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/005982    International Application No.:    PCT/EP2003/007183
Publication Date: 15.01.2004 International Filing Date: 04.07.2003
IPC:
A61B 18/22 (2006.01), F21V 8/00 (2006.01)
Applicants: LASER- UND MEDIZIN-TECHNOLOGIE GMBH BERLIN [DE/DE]; Fabeckstrasse 60-62, 14195 Berlin (DE) (For All Designated States Except US).
ASHKENASI, David [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ROSENFELD, Arkadi [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KNAPPE, Verena [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MÜLLER, Gerhard [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: ASHKENASI, David; (DE).
ROSENFELD, Arkadi; (DE).
KNAPPE, Verena; (DE).
MÜLLER, Gerhard; (DE)
Agent: EISENFÜHR, SPEISER & PARTNER; Anna-Louisa-Karsch-Strasse 2, 10178 Berlin (DE)
Priority Data:
102 31 463.2 05.07.2002 DE
Title (DE) MIKROSTRUKTURIERUNG VON LICHTWELLENLEITERN ZUR ERZEUGUNG VON OPTISCHEN FUNKTIONSELEMENTEN
(EN) MICROSTRUCTURING OF AN OPTICAL WAVEGUIDES FOR PRODUCING FUNCTIONAL OPTICAL ELEMENTS
(FR) MICROSTRUCTURATION DE GUIDE D'ONDES OPTIQUES POUR LA PRODUCTION D'ELEMENTS FONCTIONNELS OPTIQUES
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Mikrostrukturierung eines Lichtwellenleiters mit einem ersten Querschnittsbereich mit einem ersten Brechungsindex, einem zweiten Querschnittsbereich mit einem zweiten Brechungsindex, und einem Grenzbereich im Übergang vom ersten zum zweiten Querschnittsbereich, bei dem der Lichtwellenleiter mit Laserstrahlung in Form mindestens eines ultrakurzen Einzelpulses oder einer Pulsfolge mit definiertem Energieeintrag bestrahlt wird, wobei die Bestrahlung derart erfolgt, dass an mindestens einem definierten Abschnitt des Grenzbereiches eine Modifikation mindestens einer optischen Eigenschaft des Lichtwellenleiters eintritt.
(EN)The invention relates to a method for microstructuring an optical waveguide which comprises a first cross section area having a first refraction index, a second cross section area having a second refraction index and a limiting area which is disposed at the junction of the first and second cross section areas. The inventive method consists in exposing the optical waveguide to the effect of a laser beam which is embodied in the form of at least one individual ultrashort pulse or a pulse sequence with a given power input, thereby defining quantity of received energy. The optical waveguide is exposed to the effect of the laser beam in such a way that at least one optical property thereof is modified in at least one defined part of the limiting area
(FR)L'invention concerne un procédé pour la microstructuration de guide d'ondes optiques comportant une première zone de section transversale, qui présente un premier indice de réfraction, une deuxième zone de section transversale, qui présente un deuxième indice de réfraction, et une zone limite située à la jonction entre la première et la deuxième zone de section transversale. Ledit procédé consiste à exposer le guide d'ondes optiques à un rayon laser sous la forme d'au moins une impulsion individuelle ultracourte ou d'une séquence d'impulsions, la quantité d'énergie fournie étant définie. L'exposition au rayon s'effectue de sorte qu'au moins une propriété optique du guide d'ondes optiques soit modifiée sur au moins une partie définie de la zone limite.
Designated States: DE, GB, JP, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)