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1. (WO2004005587) SURFACE NANOPATTERNING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/005587    International Application No.:    PCT/US2003/021496
Publication Date: 15.01.2004 International Filing Date: 08.07.2003
IPC:
C25D 13/00 (2006.01)
Applicants: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street, 12th floor, Oakland, CA 94607-5200 (US) (For All Designated States Except US).
MONBOUQUETTE, Harold, G. [US/US]; (US) (For US Only).
GARCIA-GARIBAY, Miguel [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: MONBOUQUETTE, Harold, G.; (US).
GARCIA-GARIBAY, Miguel; (US)
Agent: O'BANION, John, P.; O'Banion & Ritchey LLP, Suite 1550, 400 Capitol Mall, Sacramento, CA 95814 (US)
Priority Data:
60/394,701 08.07.2002 US
Title (EN) SURFACE NANOPATTERNING
(FR) NANOSTRUCTURATION SUPERFICIELLE
Abstract: front page image
(EN)A method for producing, and a product having, a surface nanopattern, wherein the method comprises the steps of: obtaining a substrate (27) with a smooth surface; acquiring a self-assembling monolayer precursor, wherein the precursor includes an inducible, usually photocatalytically, active region and a substrate attachment region; mixing a plurality of the self-assembly monolayer precursors with the substrate (27) to produce a self-assembling monolayer having an exposed surface comprising the inducible active regions (25) and anchored to the substrate smooth surface by the substrate attachment regions (27); obtaining a path-directable nanoparticle (30); contacting the path-directable nanoparticle (30) with the exposed surface at an interface area; exposing the contacted surface to an inducing event, usually exposure to light; and appliying a force to the contacted path-directable nonaparticle (30) to produce movement of the nanoparticle over the exposed surface.
(FR)L'invention concerne un procédé de production et un produit présentant une nanostructure superficielle. Ledit procédé consiste à se procurer un substrat à surface lisse, à acquérir un précurseur à monocouche autoassembleuse, ledit précurseur présentant une région inductible habituellement photocatalytiquement active et une région de fixation à un substrat. Ce procédé consiste ensuite à mélanger au substrat une pluralité de précurseurs à monocouche autoassembleuse, de manière à produire une monocouche autoassembleuse dont une surface exposée comporte les régions actives inductibles et est ancrée sur la surface lisse du substrat par les régions de fixation au substrat, à obtenir une nanoparticule dirigeable, à mettre en contact cette nanoparticule dirigeable avec la surface exposée au niveau d'une zone d'interface, à exposer cette surface exposée, en contact avec ladite nanoparticule, à un milieu inducteur, habituellement de la lumière, de manière à modifier chimiquement les régions actives inductibles et à produire un état détectable dans la zone d'interface sur la surface exposée puis à appliquer une force de magnitude et direction variables dans le plan de la surface sur la nanoparticule dirigeable mise en contact, afin d'entraîner en mouvement ladite nanoparticule sur la surface exposée, de sorte que la zone d'interface à état détectable s'étende dans une trace détectable au-dessus de la surface exposée afin de produire la surface nanostructurée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)