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1. (WO2004003963) PLASMA PROCESSOR WITH ELECTRODE SIMULTANEOUSLY RESPONSIVE TO PLURAL FREQUENCIES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/003963    International Application No.:    PCT/US2003/019366
Publication Date: 08.01.2004 International Filing Date: 20.06.2003
Chapter 2 Demand Filed:    26.01.2004    
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6516 (US) (For All Designated States Except US).
VAHEDI, Vahid [US/US]; (US) (For US Only).
LOEWENHARDT, Peter [CA/US]; (US) (For US Only).
ELLINGBOE, Bert [US/IE]; (IE) (For US Only).
KUTHI, Andy [US/US]; (US) (For US Only).
FISCHER, Andreas [DE/US]; (US) (For US Only)
Inventors: VAHEDI, Vahid; (US).
LOEWENHARDT, Peter; (US).
ELLINGBOE, Bert; (IE).
KUTHI, Andy; (US).
FISCHER, Andreas; (US)
Agent: LOWE, Allan, M.; Lowe Hauptman Gilman & Berner, LLP, Suite 310, 1700 Diagonal Road, Alexandria, VA 22314 (US)
Priority Data:
10/180,978 27.06.2002 US
Title (EN) PLASMA PROCESSOR WITH ELECTRODE SIMULTANEOUSLY RESPONSIVE TO PLURAL FREQUENCIES
(FR) PROCESSEUR AU PLASMA AVEC ELECTRODE SENSIBLE SIMULTANEMENT A PLUSIEURS FREQUENCES
Abstract: front page image
(EN)A plasma in a vacuum chamber where a workpiece is processed is bounded by a plasma confinement volume including a region between a first electrode simultaneously responsive to power at first and second RF frequencies and a DC grounded second electrode. A DC grounded extension is substantially aligned with the first electrode. A substantial percentage of power at the first frequency is coupled to a path including the first and second electrodes but not the extension while a substantial percentage of power at the second frequency is coupled to a path including the first electrodes and extension, but not the second electrode. Changing the relative powers at the first and second frequencies, as applied to the first electrode, controls DC bias voltage of the first electrode.
(FR)Selon l'invention, un plasma dans une chambre à vide destinée au traitement d'une pièce à usiner est défini par un volume de confinement de plasma comprenant une zone située entre une première électrode sensible simultanément à une énergie présentant une première et une seconde fréquence RF et une seconde électrode à la masse CC. Une extension à la masse CC est sensiblement alignée avec la première électrode. Un pourcentage substantiel d'énergie à la première fréquence est couplé à un chemin comprenant lesdites première et seconde électrodes mais pas l'extension, un pourcentage substantiel d'énergie à la seconde fréquence étant couplé à un chemin comprenant la première électrode et l'extension mais pas la seconde électrode. Le changement des énergies relatives présentant lesdites première et seconde fréquences, telles qu'appliquées sur la première électrode, permet de réguler la tension de polarisation CC de cette première électrode.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)