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1. (WO2004003528) METHOD AND DEVICE FOR CARRYING OUT EMISSION SPECTROMETRY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/003528    International Application No.:    PCT/EP2003/006705
Publication Date: 08.01.2004 International Filing Date: 25.06.2003
Chapter 2 Demand Filed:    21.01.2004    
IPC:
G01N 21/71 (2006.01)
Applicants: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E. V. [DE/DE]; Hansastrasse 27c, 80686 München (DE) (For All Designated States Except US).
NOLL, Reinhard [DE/DE]; (DE) (For US Only).
STEPPUTAT, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: NOLL, Reinhard; (DE).
STEPPUTAT, Michael; (DE)
Agent: GAGEL, Roland; Landsbergerstrasse 480a, D-81241 München (DE)
Priority Data:
102 29 498.4 01.07.2002 DE
Title (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DER EMISSIONSSPEKTROMETRIE
(EN) METHOD AND DEVICE FOR CARRYING OUT EMISSION SPECTROMETRY
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE SPECTROMETRIE D'EMISSION
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Durchführung der Emissionsspektroskopie, insbesondere der Laser-Emissionsspektroskopie, bei dem ein gepulster Laserstrahl zur Generierung eines laserinduzierten Plasmas automatisch auf ein Werkstück fokussiert wird, und bei dem die vom Plasma emittierte Strahlung detektiert und mit dem erfassten Strahlungsspektrum eine Elementanalyse durchgeführt wird. Die vorgeschlagenen Verbesserungen bestehen zum einen darin eine Laserstrahlbeaufschlagung mit variablem Pulsabstand &Dgr;Tvorzunehmen, um zum anderen darin, vor der Plasma-Generierung neben dem Abstand d der Autofokussieroptik zur Werkstückoberfläche zusätzliche Geometrie-Parameter P 1, P 2 .. PN eines potentiellen Messortes auf der Werkstückoberfläche zu bestimmen, und nur für diejenigen potentiellen Messorte eine Elementanalyse durchzuführen, bei denen sich mindestens einer der zusätzlichen Geometrie-Parameter innerhalb eines vorgegebenen Tolerenzbereichs [T 1. . T 2] befindet.
(EN)The invention relates to a method and a device for carrying out emission spectroscopy, in particular laser emission spectroscopy. According to said method, a pulsed laser beam is automatically focussed on a workpiece to generate a laser-induced plasma, the radiation emitted from the plasma is detected and an elemental analysis is performed using the captured radiation spectrum. The invention is characterised in that a laser beam impingement is carried out with a variable pulse interval $g(D)T, that prior to the plasma generation, additional geometric parameters P 1, P 2 .. PN of a potential measurement location on the workpiece surface, in addition to the distance d of the autofocus lens from said workpiece surface are determined and in that an elemental analysis is only performed for the potential measurement locations, at which at least one of the additional geometric parameters lies within a predefined tolerance range [T1..T2].
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif de spectroscopie d'émission, en particulier de spectroscopie d'émission par laser. Selon ledit procédé, un faisceau laser pulsé est focalisé automatiquement sur une pièce pour générer un plasma induit par laser, le rayonnement émis par le plasma est détecté et une analyse d'éléments est effectuée au moyen du spectre de rayonnement détecté. Ce procédé se caractérise en ce que le faisceau laser appliqué présente des impulsions à intervalle variable $g(D)T, en ce que, avant que le plasma soit généré, d'autres paramètres géométriques P1, P2 .. PN d'un point de mesure potentiel sur la surface de la pièce sont déterminés en plus de la distance d entre l'optique de focalisation automatique et la surface de la pièce et en ce qu'une analyse d'éléments est effectuée uniquement pour les points de mesure potentiels pour lesquels au moins un des paramètres géométriques supplémentaires se trouve dans une plage de tolérance prédéterminée [T1 . . T2].
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)