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1. (WO2004003048) ISOCYANATO-CONTAINING POLYETHER URETHANE MONOEPOXIDES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/003048    International Application No.:    PCT/EP2003/050258
Publication Date: 08.01.2004 International Filing Date: 25.06.2003
Chapter 2 Demand Filed:    23.12.2003    
IPC:
C08G 18/28 (2006.01), C08G 59/50 (2006.01), C09D 163/00 (2006.01)
Applicants: HUNTSMAN ADVANCED MATERIALS (SWITZERLAND) GMBH [CH/CH]; Klybeckstrasse 200, CH-4057 Basel (CH) (For All Designated States Except US).
VOLLE, Jörg [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHERZER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: VOLLE, Jörg; (DE).
SCHERZER, Wolfgang; (DE)
Agent: MAUÉ, Paul, Georg; Solvias AG, Patents, WKL-402.4.26, Klybeckstrasse 191, CH-4002 Basel (CH)
Priority Data:
102 29 453.4 01.07.2002 DE
Title (EN) ISOCYANATO-CONTAINING POLYETHER URETHANE MONOEPOXIDES
(FR) MONOÉPOXYDES POLYÉTHER URÉTHANNE CONTENANT DE L'ISOCYANATO
Abstract: front page image
(EN)Curable compositions comprising A) a non-C) epoxy resin having on average more than one epoxide group per molecule, B) an amine compound, C) an isocyanato-containing polyether urethane monoepoxide of the general formula (I), in which R1 and R2 independently of one another are a radical -H or -CH3, n = 0 - 50, and R3 is an aliphatic, araliphatic, aromatic or cycloaliphatic alkylene radical, it being possible for C) to be present both as a constituent in the epoxy resin A) and as an amine adduct in the amine compound B), and D) auxiliaries and additives and/or diluents, and also polyurethane systems further comprising E) an optionally blocked isocyanate, and optionally F) a hydroxy compound having on average at least two hydroxyl groups in the molecule, the use of these curable compositions as casting resin, matrix resin, tooling resin or as coating materials, and further as a formulating component for epoxy resin compositions, in polyurethane systems, and for preparing stable aqueous epoxy resin dispersions.
(FR)L'invention concerne des compositions réticulables comprenant A) une résine époxy non-C) contenant en moyenne plus d'un groupe époxyde par molécule, B) un composé amine, C) un monoépoxyde polyéther uréthanne contenant de l'isocyanato de formule (I), dans laquelle R1 et R2 signifient indépendamment l'un de l'autre un radical -H ou -CH3, n = 0 - 50, et R3 désigne un radical alkylène aliphatique, araliphatique, aromatique ou cycloaliphatique, ceci étant possible lorsque C) est présent à la fois comme constituant dans la résine époxy A) et comme produit d'addition amine dans le composé amine B), et D) des agents auxiliaires et des additifs et/ou des diluants, ainsi que des systèmes polyuréthanne comportant E) un isocyanate éventuellement bloqué, et éventuellement F) un composé hydroxyl ayant en moyenne au moins deux groupes hydroxyl dans la molécule. La présente invention porte également sur l'utilisation de ces compositions réticulables comme résine de coulée, résine matricielle, résine d'usinage ou en tant que matières d'enrobage, ou bien encore comme composants de formulation pour des compositions de résine époxy, dans des systèmes polyuréthanne, et pour préparer des dispersions de résine époxy aqueuse stable.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)