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1. (WO2004002993) RADICALS OF GROUP 14 ELEMENTS OF THE THIRD PERIOD AND BELOW AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2004/002993    International Application No.:    PCT/JP2003/006990
Publication Date: 08.01.2004 International Filing Date: 03.06.2003
Chapter 2 Demand Filed:    28.01.2004    
IPC:
C07F 7/08 (2006.01)
Applicants: INSTITUTE OF TSUKUBA LIAISON CO., LTD. [JP/JP]; 169-1, Takano, Tsukuba-shi, Ibaraki 300-2642 (JP) (For All Designated States Except US).
SEKIGUCHI, Akira [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SEKIGUCHI, Akira; (JP)
Agent: TAKAISHI, Kitsuma; 67, Kagurazaka 6-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 162-0825 (JP)
Priority Data:
2002-190722 28.06.2002 JP
Title (EN) RADICALS OF GROUP 14 ELEMENTS OF THE THIRD PERIOD AND BELOW AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) RADICAUX D'ELEMENTS DU GROUPE 14 DE LA TROISIEME PERIODE ET DE PERIODES AU-DESSOUS, ET METHODE DE PRODUCTION DESDITS RADICAUX
(JA) 高周期14族元素ラジカル及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)A process for production of radicals of Group 14 elements of the third period and below as represented by the general formula (1): (1) [wherein E is a Group 14 element of the third period or below; R1 to R9 are each alkyl or aryl and may be the same or different from each other; x, y, and z are each an integer of 0 to 3 and satisfy the relationship: x + y + z = 3; and · is an unpaired electron], which comprises the step of reacting a compound bearing a group 14 element of the third period or below to which two halogen atoms and two silyl groups are bonded with a silyl salt and then with an oxidizing agent of one electron accepting type.
(FR)L'invention concerne une méthode de production de radicaux d'éléments du groupe 14 de la troisième période et de périodes au-dessous, représentés par la formule générale (1). Cette méthode consiste à mettre en réaction un composé comportant un élément du groupe 14 de la troisième période et de périodes au-dessous, auquel deux atomes d'halogène et deux groupes silyles sont liés, au contact d'un sel de silyle, puis d'un comburant de type accepteur d'électrons. Dans ladite formule, E est un élément du groupe 14 de la troisième période ou de périodes au-dessous; R1 à R9 sont chacun alkyle ou aryle, et peuvent être identiques ou différents les uns des autres; x, y et z sont chacun un entier compris entre 0 et 3, et satisfont la relation x + y + z = 3; et . est un électron non apparié.
(JA)not available
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)