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1. (WO2003077037) REFRACTIVE PROJECTION OBJECTIVE FOR IMMERSION LITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/077037    International Application No.:    PCT/EP2003/001954
Publication Date: 18.09.2003 International Filing Date: 26.02.2003
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: ROSTALSKI, Hans-Jürgen; (DE).
ULRICH, Wilhelm; (DE)
Agent: PATENTANWÄLTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER; ZUSAMMENSCHLUSS NR. 16 Kronenstrasse 30 70174 Stuttgart (DE)
Priority Data:
102 10 899.4 08.03.2002 DE
Title (EN) REFRACTIVE PROJECTION OBJECTIVE FOR IMMERSION LITHOGRAPHY
(FR) OBJECTIF DE PROJECTION REFRINGENT POUR LITHOGRAPHIE A IMMERSION
Abstract: front page image
(EN)A purely refractive projection objective suitable for immersion microlithography is designed as a single-waist system with five lens groups, in the case of which a first lens group with a negative refracting power, a second lens group with a positive refracting power, a third lens group with a negative refracting power, a fourth lens group with a positive refracting power and a fifth lens group with a positive refracting power are provided. The system aperture is in the region of maximum beam diameter between the fourth and the fifth lens group. Embodiments of projection objectives according to the invention achieve a very high numerical aperture of NA > 1 in conjunction with a large image field, and are distinguished by a good optical correction state and moderate overall size. Pattern widths substantially below 100 nm can be resolved when immersion fluids are used between the projection objective and substrate in the case of operating wavelengths below 200 nm.
(FR)L'invention concerne un objectif de projection purement réfringent, convenant à la microlithographie à immersion. Cet objectif est conçu sous la forme d'un système à taille unique doté de cinq groupes de lentilles, un premier groupe de lentilles présentant un pouvoir de réfringence négatif, un deuxième groupe de lentilles présentant un pouvoir de réfringence positif, un troisième groupe de lentilles présentant un pouvoir de réfringence négatif, un quatrième groupe de lentilles présentant un pouvoir de réfringence positif et un cinquième groupe de lentilles présentant un pouvoir de réfringence positif. L'ouverture du système se trouve dans la région du diamètre de faisceau maximal entre le quatrième et le cinquième groupe de lentilles. Dans certains modes de réalisation, ces objectifs de projection atteignent une très grande ouverture numérique NA > 1 conjointement avec un large champ d'image et se distinguent par un bon état de correction optique et une dimension d'encombrement modérée. Des largeurs de motif sensiblement inférieurs à 100 nm peuvent être réglées lorsque des fluides d'immersion sont utilisés entre l'objectif de projection et le substrat, dans le cas de longueurs d'ondes utilisées inférieures à 200 nm.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)