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1. (WO2003076685) METHODS AND COMPOSITIONS FOR OXIDE PRODUCTION ON COPPER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/076685    International Application No.:    PCT/US2003/006815
Publication Date: 18.09.2003 International Filing Date: 04.03.2003
Chapter 2 Demand Filed:    16.09.2003    
IPC:
C23C 22/52 (2006.01), C23C 22/63 (2006.01), H05K 3/38 (2006.01)
Applicants: RD CHEMICAL COMPANY [US/US]; 1350 Pear Avenue, Apt. 7, Mountain View, CA 94043 (US) (For All Designated States Except US).
COLE, Joseph [US/US]; (US) (For US Only).
SEDLAK, Rudolf, P. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: COLE, Joseph; (US).
SEDLAK, Rudolf, P.; (US)
Agent: FRANCIS, Carol, L.; BOZICEVIC, FIELD & FRANCIS LLP, 200 Middlefield Road, Suite 200, Menlo Park, CA 94025 (US)
Priority Data:
10/093,097 05.03.2002 US
Title (EN) METHODS AND COMPOSITIONS FOR OXIDE PRODUCTION ON COPPER
(FR) PROCEDES ET COMPOSITIONS DE PRODUCTION D'OXYDE SUR DU CUIVRE
Abstract: front page image
(EN)The invention features and methods and compositions for oxide production on a Copper substrate, e.g., a Copper or Copper alloy substrate, to provide for improved adhesion of Copper substrate to polymeric material, e.g., such as used in manufacture of printed circuit boards. The oxide-producing compositions of the invention, which may be either acidic or ammoniacal, comprise 1) a source of Cu++ (Cupric) ions; 2) a source of a primary electrolyte that is non-interactive with Copper ions; 3) a Cuprous ligand, e.g., a halide ion, preferably chloride, which also serves as a secondary electrolyte; and 4) an optional organic. Acidic oxide-producing compositions comprise a strong acid as the primary electrolyte. The primary electrolyte of ammoniacal oxide-producing compositions is a non-interactive, ammonium salt of acid, which provides a highly soluble Cupric ammonium salt. The secondary electrolyte of the oxide-producing compositions is selected so as to be compatible with the primary electrolyte.
(FR)L'invention concerne des procédés et des compositions de production d'oxyde sur un substrat en cuivre, par exemple un substrat en cuivre ou en alliage de cuivre, permettant d'obtenir une adhérence améliorée entre un substrat en cuivre et un matériau polymère, de type matériau utilisé dans la fabrication de cartes de circuits imprimés. Les compositions de production d'oxyde de l'invention, qui peuvent être soit acides soit ammoniacales, comprennent: 1) une source d'ions Cu++ (cuivriques); 2) une source d'une électrolyte primaire non interactive avec des ions cuivre; 3) un ligand cuivreux, par exemple un ion halogénure, de préférence chlorure, qui fait également office d'électrolyte secondaire; et 4) un composé organique facultatif. Les compositions acides de production d'oxyde comprennent un acide fort en tant qu'électrolyte primaire. L'électrolyte primaire des compositions acides de production d'oxyde est composée d'un sel d'ammonium d'acide non interactif, qui permet d'obtenir un sel d'ammonium cuivrique hautement soluble. L'électrolyte secondaire des compositions de production d'oxyde est sélectionnée de façon à être compatible avec ladite électrolyte primaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)