WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2003073496) METHOD OF OPERATING SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/073496    International Application No.:    PCT/JP2003/002113
Publication Date: 04.09.2003 International Filing Date: 26.02.2003
IPC:
H01L 21/677 (2006.01)
Applicants: ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 5-8-1, Yotsuya, Fuchu-shi, Tokyo 183-8508 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKAHASHI, Nobuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKAHASHI, Nobuyuki; (JP)
Agent: OHGAKI, Takashi; 4F, Ikebukuro Center Building, 35-3, Higashi Ikebukuro 1-chome, Toshima-ku, Tokyo 170-0013 (JP)
Priority Data:
2002-52083 27.02.2002 JP
Title (EN) METHOD OF OPERATING SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) PROCEDE DE MISE EN OEUVRE D'UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS
Abstract: front page image
(EN)A substrate processing device (10) has a substrate transfer chamber (12) for moving, by a horizontal movement mechanism, storage trays (301, 302) for respectively storing one and two of the substrate support trays for supporting substrates in their vertical or substantially vertical state, to a substrate transfer position for effecting the movement of the substrate support trays for carry-in or carry-out purposes between chambers in either a group of substrate processing chambers (16) or a group of load lock chambers (20, 22). In the case where a defect develops in one load lock chamber of the substrate processing device, the movement of substrate support trays between these chambers is continued without using the one load lock chamber associated with the defect.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement de substrats (10) comprenant une chambre de transfert de substrats (12) destinée à déplacer, au moyen d'un mécanisme de déplacement horizontal, des plateaux de stockage (301, 302) permettant de stocker respectivement un et deux des plateaux de support de substrats assurant le support des substrats en position verticale ou sensiblement verticale, jusqu'à une position de transfert de substrats permettant le déplacement des plateaux de support de substrats à des fins d'introduction ou de retrait entre des chambres dans un groupe de chambres de traitement de substrats (16) ou un groupe de sas de chargement (20, 22). Dans le cas où un défaut apparaît dans un sas de chargement du dispositif de traitement de substrats, le déplacement des plateaux de support de substrats entre ces sas se poursuit sans utilisation du sas de chargement présentant ce défaut.
Designated States: CN, KR, US.
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)