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1. (WO2003073479) SUBSTRATE SUPPORT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/073479    International Application No.:    PCT/US2003/004885
Publication Date: 04.09.2003 International Filing Date: 18.02.2003
Chapter 2 Demand Filed:    22.09.2003    
IPC:
H01L 21/68 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventors: KURITA, Shinichi; (US).
BLONIGAN, Wendell, T.; (US).
ANWAR, Suhail; (US).
KIYOTAKE, Toshio; (JP).
NGUYEN, Hung, T.; (US)
Agent: PATTERSON, B., Todd; Moser, Patterson & Sheridan, L.L.P., 3040 Post Oak Boulevard, Suite 1500, Houston, TX 77056 (US)
Priority Data:
10/084,762 22.02.2002 US
Title (EN) SUBSTRATE SUPPORT
(FR) SUPPORT DE SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN)A method and apparatus for supporting a substrate is generally provided. In one aspect, an apparatus for supporting a substrate includes a support plate having a first body disposed proximate thereto. A first pushing member is radially coupled to the first body and adapted to urge the substrate in a first direction parallel to the support plate when the first body rotates. In another aspect, a load lock chamber having a substrate support that supports a substrate placed thereon includes a cooling plate that is moved to actuate at least one alignment mechanism. The alignment mechanism includes a pushing member that urges the substrate in a first direction towards a center of the support. The pushing member may additionally rotate about an axis perpendicular to the first direction.
(FR)Procédé et appareil pour support de substrat. Dans un aspect, un appareil pour servir de support de substrat comprend une plaque de substrat ayant un premier corps disposé à proximité. Un premier élément poussoir est couplé radial à un premier corps et est conçu pour solliciter le substrat dans une première direction parallèle à la plaque de support lorsque le premier corps pivote. Dans un autre aspect, une chambre de verrouillage de charge comprend un support de substrat qui comprend une plaque de refroidissement, déplacée de manière à actionner au moins un mécanisme d'alignement. Le mécanisme d'alignement comprend un élément poussoir qui sollicite le substrat dans une première direction, vers un centre du support. L'élément poussoir peut en outre pivoter autour d'un axe perpendiculaire à la première direction.
Designated States: CN, JP, KR, SG.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)