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1. (WO2003073151) A MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/073151    International Application No.:    PCT/US2002/013462
Publication Date: 04.09.2003 International Filing Date: 29.04.2002
Chapter 2 Demand Filed:    10.09.2003    
IPC:
B81B 3/00 (2006.01)
Applicants: IRIDIGM DISPLAY CORPORATION [US/US]; Suite 235, 2415 Third Street, San Francisco, CA 94107 (US) (For All Designated States Except US).
CHUI, Clarence [US/US]; (US) (For US Only).
MILES, Mark, W. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: CHUI, Clarence; (US).
MILES, Mark, W.; (US)
Agent: MALLIE, Michael, J.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP, 12400 Wilshire Boulevard, 7th Floor, Los Angeles, CA 90025 (US)
Priority Data:
10/084,893 27.02.2002 US
Title (EN) A MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING SAME
(FR) DISPOSITIF SYSTEMES MICRO-ELECTROMECANIQUES ET LEUR PROCEDE DE PRODUCTION
Abstract: front page image
(EN)One aspect of the invention provides a method for fabricating an array of first elements (108), each first element conforming to a first geometry; fabricating at least one array of second elements (112), each second element conforming to a second geometry; wherein fabricating the arrays comprises selecting a defining aspect of each of the first and second geometries based on a defining characteristic of each of the first and second elements; and normalizing differences in an actuation voltage required to actuate each of the first (108) and second elements (112), wherein the differences are as a result of the selected defining aspect, the defining characteristic of each of the elements being unchanged.
(FR)L'invention concerne notamment un procédé de production d'un réseau de premiers éléments (108) respectivement conformes à une première géométrie et d'au moins un réseau de deuxièmes éléments (112) respectivement conformes à une deuxième géométrie. La production des ensembles comporte la sélection d'un aspect de définition respectivement de la première et de la deuxième géométrie sur la base de la définition la caractéristique de chaque premier et deuxième élément, et la normalisation des différences dans une tension d'activation requise pour activer chaque premier élément (108) et chaque deuxième élément (112), les différences étant un résultat de l'aspect de définition sélectionné, la caractéristique de définition de chaque élément demeurant inchangée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)