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1. (WO2003072486) MEMS DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/072486    International Application No.:    PCT/US2003/004440
Publication Date: 04.09.2003 International Filing Date: 13.02.2003
IPC:
B81B 5/00 (2006.01), F04B 19/00 (2006.01), F04B 43/04 (2006.01), G02B 6/35 (2006.01), H01F 7/08 (2006.01), H02K 33/16 (2006.01)
Applicants: ADVANCED MICROSENSORS [US/US]; 333 South Street, Shewsbury, MA 01545 (US)
Inventors: TAMURA, Hirokazu; (US).
NEAL, Matthew, J.; (US).
MUGINO, Akira; (US).
BORSKI, Justin, C.; (US).
SIDMAN, Alan, L.; (US).
ZHE, Jiang; (US)
Agent: SEARS, Jeffrey, M.; Foley Hoag LLP, Patent Group, 155 Seaport Boulevard, Boston, MA 02210 (US)
Priority Data:
10/079,985 21.02.2002 US
60/418,853 16.10.2002 US
10/309,951 04.12.2002 US
10/309,964 04.12.2002 US
Title (EN) MEMS DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURE
(FR) DISPOSITIFS MICROELECTROMECANIQUES (MEMS) ET PROCEDES DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)Microelectromechanical (MEMS) devices that use MEMS electromagnetic actuators to selectively generate displacement forces and methods of fabrication are disclosed herein. According to one exemplary embodiment disclosed herein, a MEMS device may include a substrate having a surface, an actuable element at least partially formed from the substrate, and an electromagnetic actuator disposed on the substrate for selectively applying a first force to the actuable element to displace the actuable element along a path. The actuable element may have a base and an arm coupled to the base. The base may include a portion comprised of a magnetic material. The electromagnetic actuator may comprise an electrically conductive coil, and the path of the actuable element may pass through a coil gap in the coil. The electromagnetic actuator may also comprise a magnetic core about which the electrically conductive coil may be wound. MEMS devices and methods of fabrication that can minimize derailing of actuable elements during fabrication and the effects of fabrication tolerances on the operation of the devices are also disclosed herein.
(FR)L'invention concerne des dispositifs microélectromécaniques (MEMS) utilisant des commandes électromagnétiques MEMS, aux fins de génération sélective de forces de déplacement, ainsi que des procédés de fabrication associés. Selon un mode de réalisation exemplaire, un dispositif MEMS peut comprendre un substrat présentant une surface, un élément commandable au moins partiellement formé à partir du substrat et une commande électromagnétique disposée sur le substrat, aux fins d'application sélective d'une première force sur l'élément commandable, de manière à déplacer celui-ci le long d'un chemin. L'élément commandable peut comprendre une base et un segment couplé à la base. Celle-ci peut comprendre une partie constituée de matériau magnétique. La commande électromagnétique peut comprendre une bobine électriquement conductrice et le chemin de l'élément commandable peut passer à travers un entrefer dans la bobine. La commande électromagnétique peut également comprendre un noyau magnétique autour duquel la bobine électriquement conductrice peut être enroulée. L'invention concerne enfin des dispositifs MEMS et des procédés de fabrication pouvant minimiser des déraillements d'éléments commandables pendant la fabrication et les effets des tolérances de fabrication sur le fonctionnement des dispositifs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)