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1. (WO2003058707) SEMICONDUCTOR PROCESSING SYSTEM AND SEMICONDUCTOR CARRYING MECHANISM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/058707    International Application No.:    PCT/JP2003/000039
Publication Date: 17.07.2003 International Filing Date: 07.01.2003
Chapter 2 Demand Filed:    29.07.2003    
IPC:
H01L 21/677 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (For All Designated States Except US).
HIROKI, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIROKI, Tsutomu; (JP)
Agent: SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE, 7-2, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0013 (JP)
Priority Data:
2002-001831 08.01.2002 JP
Title (EN) SEMICONDUCTOR PROCESSING SYSTEM AND SEMICONDUCTOR CARRYING MECHANISM
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT A SEMI-CONDUCTEUR ET MECANISME PORTEUR DE SEMI-CONDUCTEUR
Abstract: front page image
(EN)A semiconductor processing system, wherein a carrying base table (30) is installed in a carrying mechanism (26) for carrying a processed substrate (W) to a processing device, first and second holding arms (32A, 32B) are slidably installed parallel with each other on the carrying base table (30), and the first and second holding arms (32A, 32B) having first and second holding surfaces (33A, 33B) for holding the processed substrate (W) are substantially positioned on the same plane and operated so that the first and second holding surfaces (33A, 33B) can be projected in the same direction relative to the carrying base table (30).
(FR)L'invention concerne un système de traitement à semi-conducteur, dans lequel un tableau de base porteur (30) est installé dans un mécanisme porteur (26) afin de porter un substrat traité (W) sur un dispositif de traitement, des premier et second bras de support (32A, 32B) sont installés par glissement et placés parallèles entre eux sur le tableau de base porteur (30), lesdits bras de support (32A, 32B) ayant des première et seconde surfaces de support (33A, 33B) permettant de supporter le substrat traité (W) et étant sensiblement placés sur le même plan et fonctionnant de manière que les première et seconde surfaces de support (33A, 33B) puissent être projetées dans la même direction par rapport au tableau de base porteur (30).
Designated States: CN, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)