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1. (WO2003056615) SOLVENT FOR TREATING POLYSILAZANE AND METHOD OF TREATING POLYSILAZANE WITH THE SOLVENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/056615    International Application No.:    PCT/JP2002/013323
Publication Date: 10.07.2003 International Filing Date: 19.12.2002
IPC:
C08G 77/26 (2006.01), C23G 5/00 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/308 (2006.01)
Applicants: CLARIANT INTERNATIONAL LTD. [CH/CH]; Rothausstrasse 61 CH-4132 Muttenz 1 (CH) (For All Designated States Except US).
SHIMIZU, Yasuo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUZUKI, Tadashi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIMIZU, Yasuo; (JP).
SUZUKI, Tadashi; (JP)
Agent: KANAO, Hiroki; Mutsumi International Patent Bureau Bandai Bldg., 10-14, Kandaawajicho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101-0063 (JP)
Priority Data:
2001-396328 27.12.2001 JP
Title (EN) SOLVENT FOR TREATING POLYSILAZANE AND METHOD OF TREATING POLYSILAZANE WITH THE SOLVENT
(FR) SOLVANT DE TRAITEMENT DE POLYSILAZANE ET PROCEDE DE TRAITEMENT DE POLYSILAZANE AVEC LE SOLVANT
Abstract: front page image
(EN)A solvent which is a single or mixed solvent comprising at least one member selected from the group consisting of xylene, anisole, decalin, cyclohexane, cyclohexene, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, limonene, hexane, octane, nonane, decane, a mixture of C8 to C11 alkanes, a mixture of C8 to C11 aromatic hydrocarbons, an aliphatic/alicyclic hydrocarbon mixture containing 5 to 25 wt.% C8 or higher aromatic hydrocarbon, and dibutyl ether and in which the number of fine particles of 0.5 µm or larger contained per mL of the solvent is 50 or smaller. This solvent is used to treat a polysilazane. Examples of the polysilazane treatment include rinsing of the edges of a polysilazane film formed by spin coating on, e.g., a semiconductor substrate and rinsing of the back of the coated substrate. The water content of the solvent is preferably 100 ppm or lower.
(FR)L'invention concerne un solvant simple ou en mélange comprenant au moins un solvant choisi parmi le groupe de solvants comprenant le xylène, l'anisole, la décaline, le cyclohexane, le cyclohexène, le méthylcyclohexane, l'éthylcyclohexane, le limonène, l'hexane, l'octane, le nonane, le décane, un mélange d'alcanes de C8 à C11, un mélange d'hydrocarbures aromatiques de C8 à C11, un mélange d'hydrocarbures aliphatique/alicyclique contenant de 5 à 25 % en poids d'hydrocarbure aromatique en C8 ou supérieur, et le dibutyléther, et dans lequel le nombre de particules fines de 0,5 $g(m)m ou plus par ml de solvant est inférieur ou égal à 50. Ce solvant est utilisé afin de traiter un polysilazane. Des exemples de traitement de polysilazane comprennent le rinçage des bords d'un film de polysilazane formé par revêtement centrifuge sur, par exemple, un substrat semi-conducteur et le rinçage du dos du substrat recouvert. La teneur en eau du solvant est de préférence inférieure ou égale à 100 ppm.
Designated States: CN, KR, SG, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)