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1. (WO2003056610) SUBSTRATE TREATMENT METHOD AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/056610    International Application No.:    PCT/JP2002/013320
Publication Date: 10.07.2003 International Filing Date: 19.12.2002
Chapter 2 Demand Filed:    09.06.2003    
IPC:
H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (For All Designated States Except US).
IWANAGA, Shuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KATAYAMA, Kyoshige [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TADOKORO, Masahide [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANAKA, Michio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
UEMURA, Ryouichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: IWANAGA, Shuji; (JP).
KATAYAMA, Kyoshige; (JP).
TADOKORO, Masahide; (JP).
TANAKA, Michio; (JP).
UEMURA, Ryouichi; (JP)
Agent: OMORI, Junichi; 4th Floor Matrice Bldg., 2-13-7 Minamiaoyama, Minato-ku, Tokyo 107-0062 (JP)
Priority Data:
2001-391286 25.12.2001 JP
2002-001394 08.01.2002 JP
Title (EN) SUBSTRATE TREATMENT METHOD AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS
(FR) PROCEDE DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN)Step 11 extracts parameters such as temperature, pressure, and humidity in an apparatus or a convey time in the apparatus as environment conditions around the substrate affecting formation of a resist pattern and collects only normal data values used when forming a desired resist pattern. Step 12 calculates at least two main components by applying the main component analysis technique to the normal data values, so that step 13 can create a normal region. By using this normal region created as an index when forming a resist pattern on a substrate as an actual product, it is possible to easily determine whether the resist pattern is normal.
(FR)L'étape 11 correspond à l'extraction de paramètres tels que la température, le pression et l'humidité dans un dispositif ou le temps de transport dans le dispositif ainsi que les conditions régnant dans l'environnement autour du substrat agissant sur la formation d'un motif de réserve, et au rassemblement uniquement de valeurs de données normales utilisées au cours de la formation d'un motif de réserve désiré. L'étape 12 correspond au calcul d'au moins deux composantes principales par application de la technique d'analyse de composantes principales aux valeurs de données normales, de sorte que l'étape 13 peut permettre la production d'une zone normale. L'utilisation de cette zone normale produite en tant qu'indice au cours de la formation d'un motif de réserve sur un substrat en tant que produit réel permet de déterminer facilement si le motif de réserve est normal.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)