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1. (WO2003056380) LIGHT BEAM SWITCHING/ADJUSTING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/056380    International Application No.:    PCT/JP2002/013003
Publication Date: 10.07.2003 International Filing Date: 12.12.2002
Chapter 2 Demand Filed:    02.06.2003    
IPC:
G02B 6/35 (2006.01), H01L 25/065 (2006.01), H04Q 11/00 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (For All Designated States Except US).
NTT ELECTRONICS CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Dougenzaka 1-chome, Shibuya-ku, Tokyo 150-0043 (JP) (For All Designated States Except US).
AKAGAWA, Keiichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUZUKI, Yoshihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ISHIZUYA, Tohru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUZUKI, Junji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KURUMADA, Katsuhiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KANAYA, Masatoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAMAMURA, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: AKAGAWA, Keiichi; (JP).
SUZUKI, Yoshihiko; (JP).
ISHIZUYA, Tohru; (JP).
SUZUKI, Junji; (JP).
KURUMADA, Katsuhiko; (JP).
KANAYA, Masatoshi; (JP).
TAMAMURA, Toshiaki; (JP)
Agent: HOSOE, Toshiaki; Corpo Fuji 605, 3-6, Nishikanagawa 1-Chome, Kanagawa-ku, Yokohama-Shi, Kanagawa 221-0822 (JP)
Priority Data:
2001-395511 26.12.2001 JP
2002-284190 27.09.2002 JP
Title (EN) LIGHT BEAM SWITCHING/ADJUSTING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) APPAREIL DE COMMUTATION/REGLAGE D'UN FAISCEAU LUMINEUX, ET PROCEDE DE FABRICATION DE CELUI-CI
Abstract: front page image
(EN)An optical waveguide substrate (2) has a groove (24) for receiving mirrors and optical waveguides. The optical waveguides guide the light input to an input port to an output port selected according to the advance/retreat of mirrors (31) into/from the groove (24). An actuator substrate (4) has the mirrors (31) and an actuator for setting the mirrors (31) at a retreated position to the substrate (4) and a protruding position from the substrate (4). The optical waveguide substrate (2) and the actuator substrate (4) are positioned by utilizing an alignment mark and connected to each other via a spacer (3) so that when the mirrors (31) retreat to the substrate (4), they retreat from the grooves (24) and when the mirrors (31) protrude from the substrate (4), they advances into the grooves (24). This positioning is performed with all the mirrors (31) in the retreated state to the substrate (4).
(FR)Un substrat pour guide d'onde optique (2) présente une rainure (24) destinée au logement de miroirs et de guides d'ondes optiques. Les guides d'ondes optiques guident l'entrée de la lumière vers un orifice d'entrée à un orifice de sortie choisi conformément à l'avance ou au retrait des miroirs (31) dans la rainure (24) ou à partir de celle-ci. Un substrat pour actionneur (4) comprend les miroirs (31) et un actionneur de réglage de ces miroirs (31) en une position de retrait par rapport au substrat (4) et une position en saillie par rapport au substrat (4). Le substrat pour guide d'onde optique (2) et le substrat pour actionneur (4) sont positionnés au moyen d'un marquage d'alignement et connectés mutuellement via un espaceur (3), de telle sorte que lorsque les miroirs (31) sont en retrait dans le substrat (4), ils se détachent des rainures (24), et lorsque les miroirs (31) sont en saillie par rapport au substrat (4), ils se déplacent dans les rainures (24). Ce positionnement est effectué lorsque tous les miroirs (31) sont en retrait par rapport au substrat (4).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)