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1. (WO2003054941) PLASMA TREATMENT APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/054941    International Application No.:    PCT/JP2002/013095
Publication Date: 03.07.2003 International Filing Date: 13.12.2002
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (For All Designated States Except US).
HIGASHIURA, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIGASHIURA, Tsutomu; (JP)
Agent: KIMURA, Mitsuru; 2nd Floor, Kyohan Building 7, Kandanishiki-cho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101-0054 (JP)
Priority Data:
2001-380196 13.12.2001 JP
Title (EN) PLASMA TREATMENT APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA ET SON PROCEDE DE COMMANDE
Abstract: front page image
(EN)A frequency control circuit (45) controls oscillation frequency of a second high-frequency power source according to a phase difference between the voltage component and the current component measured by a phase difference sensor (41) and an input impedance to an impedance matching device (34) measured by an impedance sensor (42). An amplitude control circuit (44) controls the high-frequency power output by the second high-frequency power source (51) according to the power (effective power) supplied to the impedance matching device (34) side and measured by a power sensor (40).
(FR)L'invention porte sur un régulateur (45) de fréquence qui régule la fréquence d'oscillation d'une seconde source de puissance haute fréquence sur la base d'un déphasage entre la composante tension et la composante courant mesurées par une sonde (41) de déphasage, et une impédance d'entrée délivrée à un adaptateur d'impédance (34) et mesurée par une sonde (42). Un régulateur d'amplitude (44) régule la sortie de puissance haute fréquence par la source (51) de puissance haute fréquence en fonction de la puissance (effective) fournie à l'adaptateur d'impédance (34) et mesurée par sonde (40).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)