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1. (WO2003007046) OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE APPARATUS HAVING THE OPTICAL SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/007046    International Application No.:    PCT/JP2002/006964
Publication Date: 23.01.2003 International Filing Date: 09.07.2002
Chapter 2 Demand Filed:    20.01.2003    
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP)
Inventors: SHIRAISHI, Naomasa; (JP)
Agent: YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0048 (JP)
Priority Data:
2001-208713 10.07.2001 JP
2001-214442 13.07.2001 JP
Title (EN) OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE APPARATUS HAVING THE OPTICAL SYSTEM
(FR) SYSTEME OPTIQUE ET APPAREIL D'EXPOSITION EQUIPE DU SYSTEME OPTIQUE
Abstract: front page image
(EN)An optical system having a favorable optical performance without being substantially influenced by birefringence even if a birefringent crystal material such as fluorite is used. The optical system (100) comprises crystal optical elements composed of crystals of a cubic system. The crystal optical devices include crystal optical elements (105, 106) the first crystal axes of which are aligned with the optical axis and crystal optical elements (109, 110) the second crystal axes of which are aligned with the optical axis. In order to substantially avoid the influence of birefringence, a first total evaluation value ΣRj that is the total of first evaluation values Rj concerning the crystal optical elements is in a predetermined relation, about the light rays of the image forming light beam focused at least at a given point on the image plane of the optical system or on an object, with a second total evaluation value ΣSj that is the total of second evaluation values Sj concerning the crystal optical elements.
(FR)Système optique présentant des performances optiques favorables sans être sensiblement influencé par la biréfringence, même si une matière de cristal biréfringent, p. ex. fluorite, est utilisée. Le système (100) optique comporte des éléments optiques cristallins se composant de cristaux d'un système cubique. Les dispositifs optiques cristallins comprennent des éléments (105, 106) optiques cristallins dont les premiers axes cristallins sont alignés sur l'axe optique, et d'autres éléments (109, 110) optiques cristallins dont les deuxièmes axes cristallins sont alignés sur l'axe optique. Afin d'éviter sensiblement un effet dû à la biréfringence, il est fait en sorte qu'une première valeur d'évaluation totale $g(S)Rj, représentant le total de premières valeurs d'évaluation Rj relatives aux éléments optiques cristallins, présente une relation prédéterminée, par rapport aux rayons lumineux du faisceau lumineux imageur focalisé sur au moins un point donné du plan d'image du système optique ou sur un objet, avec une deuxième valeur d'évaluation totale $g(S)Sj, représentant le total de deuxièmes valeurs d'évaluation Sj relatives aux éléments optiques cristallins.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)