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1. (WO2003006093) REMOVING DOSE ELECTRIC CHARGE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/006093    International Application No.:    PCT/SE2002/001284
Publication Date: 23.01.2003 International Filing Date: 28.06.2002
Chapter 2 Demand Filed:    24.01.2003    
IPC:
A61M 15/02 (2006.01)
Applicants: MICRODRUG AG [CH/CH]; Landweg 1, CH-6052 Hergiswil NW (CH) (For All Designated States Except US).
NILSSON, Thomas [SE/SE]; (SE) (For US Only)
Inventors: NILSSON, Thomas; (SE)
Agent: HEDBERG, Åke; Aros Patent AB, P.O. Box 1544, S-751 45 Uppsala (SE)
Priority Data:
0102522-0 13.07.2001 SE
Title (EN) REMOVING DOSE ELECTRIC CHARGE
(FR) ELIMINATION D'UNE CHARGE ELECTRIQUE DANS UNE DOSE
Abstract: front page image
(EN)A method and a device are defined for quick neutralization of a created electrostatic field formed by a multitude of basically charged particles comprising a medication powder (180) deposited onto a defined target area (160) of a substrate member (140) in the course of a dose forming process. A charge generator emits charges, which are directed towards the target area of the substrate member such that the electric field created by the accumulated charges from the deposited particles is neutralized by the added charges. Various means may be used to generate neutralizing charges, but an ion source (195) is a most efficient means in achieving neutralization of the dose charge and the substrate. The source may be applied so that the dose (180) and the target area (160) are exposed to the emitted charges during the entire or part of the dose forming process. If necessary the substrate member (140) or the source (195) are repositioned by a servo device (190) for efficient neutralization of charges. The present invention further provides a non-contact electric connection by using an ion source (195) behind the substrate member. The ion source ionizes the gas in the gap between the ion source body and the electrode behind the substrate member. A voltage source feeds the ion source chassis with the appropriate voltage. The substrate electrode is thus included in the circuit and will attract powder particles to the target area.
(FR)Procédé et un dispositif permettant de neutraliser rapidement un champ électrostatique créé par une multitude de particules chargées qui renferment une poudre médicamenteuse (180) déposée sur la région cible (160) d'un élément substrat (140) au cours du processus de confection de la dose. Un générateur de charges émet des charges qui sont dirigées sur la région cible de l'élément substrat de telle sorte que le champ électrique créé par les charges accumulées à partir des particules déposées est neutralisé par les charges ajoutées. On peut utiliser divers moyens pour neutraliser les charges, mais une source d'ions (195) permet au mieux de neutraliser la charge de la dose et du substrat. La source peut être appliquée de telle sorte que la dose (180) et la région cible (160) soient exposées aux charges émises pendant toute la durée du processus de formage de la dose. Au besoin, l'élément substrat (140) ou la source (195) sont repositionnés par un servo-dispositif (190) garantissant une neutralisation efficace des charges. La présente invention permet par ailleurs de créer une connexion électrique sans contact au moyen d'une source d'ions (195) disposée derrière l'élément substrat. La source d'ions ionise le gaz compris dans l'écartement entre le corps de la source d'ions et l'électrode située derrière l'élément substrat. Une tension appropriée est fournie au châssis de la source d'ions. L'électrode du substrat, qui est incluse dans le circuit, attire les particules de poudre vers la région cible.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)