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1. (WO2003005069) ANTIREFLECTION FILM AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/005069    International Application No.:    PCT/JP2002/006791
Publication Date: 16.01.2003 International Filing Date: 04.07.2002
IPC:
C03C 17/00 (2006.01), C03C 17/34 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01)
Applicants: TEIJIN DUPON FILMS JAPAN LIMITED [JP/JP]; 1-1, Uchisaiwaicho 2-chome,, Chiyoda-ku,, Tokyo 100-0011 (JP) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, JP, KR, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR only).
OGURI, Isamu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OGURI, Isamu; (JP)
Agent: OHSHIMA, Masataka; Ohshima Patent Office, Fukuya Bldg., 3, Yotsuya 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0004 (JP)
Priority Data:
2001-204472 05.07.2001 JP
Title (EN) ANTIREFLECTION FILM AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) COUCHE MINCE ANTIREFLET ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE
Abstract: front page image
(EN)An antireflection film having a transparent film substrate and, formed on at least one surface thereof, an antireflective layer, characterized in that the antireflective layer comprises three layers of, from the nearest layer to the transparent substrate, the first, second and third layers, wherein the first layer comprises an oxide of at least one metal selected from the group consisting of titanium and zirconium, the second layer comprises an oxide of at least one metal selected from the group consisting of titanium and zirconium, the third layer comprises an oxide of silicon, it can be confirmed by a microscopic observation that the first, second and third layers are separate layers, and the antireflective layer exhibits a reflectivity of 3 % or less with respect to an incident light beam from the antireflective layer side having a wave length of 550 nm. The antireflection film is excellent in the adhesion between respective layers constituting the antireflective layer thereof and in durability.
(FR)L'invention concerne une couche mince antireflet comprenant un substrat de couche mince transparent et une couche antiréfléchissante formée sur au moins une surface de ce substrat. Cette couche antiréfléchissante se caractérise en ce qu'elle est constituée de trois couches, une première, une deuxième et une troisième couches, de la couche la plus proche au substrat transparent, la première couche contenant un oxyde d'au moins un métal choisi dans le groupe constitué par le titane et le zirconium, la deuxième couche contenant un oxyde d'au moins un métal choisi dans le groupe constitué par le titane et le zirconium, la troisième couche contenant un oxyde de silicium. L'observation au microscope montre que les première, deuxième et troisième couches sont séparées, et que la couche antiréfléchissante présente une réfléctivité de 3 % ou inférieure, par rapport à un faisceau lumineux incident, du côté de la couche antiréfléchissante, dont la longueur d'onde est de 550 nm. La couche mince antireflet selon l'invention présente d'excellentes propriétés d'adhérence entre les couches respectives constituant la couche antiréflectrice, ainsi que d'excellentes propriétés de durabilité.
Designated States: JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)