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1. (WO2003001869) METHOD AND APPARATUS FOR USE OF PLASMON PRINTING IN NEAR-FIELD LITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2003/001869    International Application No.:    PCT/US2002/016872
Publication Date: 09.01.2003 International Filing Date: 29.05.2002
Chapter 2 Demand Filed:    23.01.2003    
IPC:
G03F 1/00 (2012.01), G03F 1/54 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 1200 East California Boulevard, Pasadena, CA 91125 (US)
Inventors: KIK, Pieter, G.; (US).
ATWATER, Harry, A.; (US)
Agent: DAWES, Daniel, L.; Myers Dawes & Andras LLP, Suite 1150, 19900 MacArthur Blvd., Irvine, CA 92612 (US)
Priority Data:
60/301,796 29.06.2001 US
60/341,907 18.12.2001 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR USE OF PLASMON PRINTING IN NEAR-FIELD LITHOGRAPHY
(FR) PROCEDE ET APPAREIL D'UTILISATION D'IMPRESSION AU PLASMON DANS LA LITHOGRAPHIE DE CHAMP PROCHE
Abstract: front page image
(EN)A method and apparatus for replicating patterns with a resolution well below the diffraction limit, uses broad beam illumination and standard photoresist. In particular, visible exposure (λ = 410 nm) of silver nanoparticles in close proximity to a thin film of g-line resist (AZ 1813) can produce selectively exposed areas with a diameter smaller than λ/20. The technique relies on the local field enhancement around metal nanostructures when illuminated at the surface plasmon resonance frequency. The method is extended to various metals, photosensitive layers, and particle shapes.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un appareil de reproduction de motifs présentant une résolution bien en-dessous de la limite de diffraction. Ledit procédé et ledit appareil font appel à l'éclairage par faisceau large et de la résine photosensible classique. L'exposition visible ($g(l) = 410 nm) de nanoparticules d'argent à proximité étroite d'une couche mince de résine à lignes Goubau (AZ 1813) peut notamment produire des zones exposées de manière sélective présentant un diamètre inférieur à $g(l)/20. Ladite technique repose sur l'amélioration du champ local autour des nanostructures métalliques lorsqu'elles sont éclairées à la fréquence de résonance du plasmon de surface. Ledit procédé s'étend à divers métaux, couches photosensibles et formes de particules.
Designated States: European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)