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Pub. No.: WO/2003/001303 International Application No.: PCT/JP2002/006234
Publication Date: 03.01.2003 International Filing Date: 21.06.2002
Chapter 2 Demand Filed: 10.10.2002
IPC:
G03G 15/08 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
G
ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
15
Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
06
for developing
08
using a solid developer, e.g. powder developer
Applicants: SAKUMA, Masamitsu[JP/JP]; JP (UsOnly)
ADACHI, Katsumi[JP/JP]; JP (UsOnly)
KAMIMURA, Taisuke[JP/JP]; JP (UsOnly)
TOIZUMI, Kiyoshi[JP/JP]; JP (UsOnly)
GOTOH, Toshimitsu[JP/JP]; JP (UsOnly)
SHARP KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku Osaka-shi, Osaka 545-8522, JP (AllExceptUS)
Inventors: SAKUMA, Masamitsu; JP
ADACHI, Katsumi; JP
KAMIMURA, Taisuke; JP
TOIZUMI, Kiyoshi; JP
GOTOH, Toshimitsu; JP
Agent: HARA, Kenzo; HARAKENZO PATENT LAW FIRM Daiwa Minamimorimachi Building 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku Osaka-shi, Osaka 530-0041, JP
Priority Data:
2001-19006522.06.2001JP
2001-26180630.08.2001JP
Title (EN) DEVELOPING DEVICE AND IMAGE FORMING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DÉVELOPPEMENT ET DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGE
Abstract:
(EN) A protection layer (1d) having a volume resistivity of 1010Ω·cm to 1017Ω·cm is laminated on the surfaces of insulation layers (1b), (1c) in a carrying member (1) so that a sum of layer thicknesses of the insulation layers (1b), (1c) and the protection layer is smaller than the interval between traveling wave generation electrodes (2). Accordingly, a traveling wave electric field generated by electrodes (2) is positively exposed to the surface of the carrying member (1), and the surface voltage of the member (1) will not vary even on contact with a developer (T), whereby it is possible to prevent the developer (T) from sticking on the surface of the member (1) and positively and constantly carry the developer (T) to a developing position.
(FR) L'invention concerne une couche de protection (1d) possédant une résistivité volumique comprise entre 1010$g(V).cm et 1017$g(V).cm et étant stratifiée sur les surfaces de couches d'isolation (1b et 1c) dans un élément porteur (1), de manière que la somme de l'épaisseur des couches d'isolation (1b et 1C) et de la couche de protection soit inférieure à l'intervalle entre des électrodes de génération d'ondes progressives (2). Par conséquent, un champ électrique à ondes progressives généré par les électrodes (2) est exposé de manière positive à la surface de l'élément porteur (1) et la tension de surface de l'élément (1) ne varie pas, même lorsqu'elle est en contact avec un révélateur (T). Ainsi, il est possible d'empêcher le révélateur (T) de coller sur la surface de l'élément (1) et d'amener de manière positive et constante le révélateur (T) dans une position de développement.
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Designated States: CN, US
European Patent Office (EPO) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)