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1. (WO2002056114) PROJECTION SYSTEM FOR EUV LITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2002/056114 International Application No.: PCT/EP2002/000030
Publication Date: 18.07.2002 International Filing Date: 04.01.2002
Chapter 2 Demand Filed: 24.07.2002
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
MANN, Hans-Jürgen [DE/DE]; DE (UsOnly)
HUDYMA, Russell [US/US]; US (UsOnly)
Inventors:
MANN, Hans-Jürgen; DE
HUDYMA, Russell; US
Agent:
GNATZIG, Klaus; Carl Zeiss SMT AG c/o Carl Zeiss Patentabteilung 73447 Oberkochen, DE
Priority Data:
60/260,79909.01.2001US
Title (EN) PROJECTION SYSTEM FOR EUV LITHOGRAPHY
(FR) SYSTEME DE PROJECTION POUR LITHOGRAPHIE PAR UV EXTREME
Abstract:
(EN) An EUV optical projection system includes at least six mirrors (M1, M2, M3, M4, M5, M6) for imaging an object (OB) to an image (IM). At least one mirror pair is preferably configured as an at least phase compensating mirror pair. The system is preferably configured to form an intermediate image (IMI) along an optical path from the object (OB) to the image (IM) between a second mirror (M2) and a third mirror (M3), such that a first mirror (M1) and the second mirror (M2) form a first optical group (G1) and the mirror (3), a fourth mirror (M4), a fith mirror (M5) and a sith mirror (M6) form a second optical group (G1). The system also preferably includes an aperture stop (APE located along the optical path from the object (OB) to the image (IM) between the first mirror (M1) and the second mirror (M2). The second mirror (M2) is preferably convex, and the third mirror (M3) is preferably concave. The system preferably forms an image (IM) with a numerical aperture greater than 0.18.
(FR) L'invention concerne un système de projection optique en UV extrême comprenant au moins six miroirs (M1, M2, M3, M4, M5, M6) destinés à transformer un objet (OB) en image (IM). Une des paire de miroirs est configurée, de préférence, afin de constituer au moins un paire de miroir de compensation de phase. Le système est configuré, de préférence, afin de former une image intermédiaire (IMI) le long d'un chemin optique partant de l'objet (OB) et allant à l'image (IM) entre un deuxième (M2) et un troisième (M3) miroirs, de telle façon que les premier (M1) et deuxième (M2) miroirs forment un premier groupe optique (G1) et que les troisième (M3), quatrième (M4), cinquième (M5) et sixième (M6) miroirs forment un second groupe optique (G2). Le système comprend aussi, de préférence, un diaphragme (APE) disposé le long du chemin optique allant de l'objet (OB) à l'image (IM) entre les premier (M1) et deuxième (M2) miroirs. Le deuxième miroir (M2) est de préférence convexe, et le troisième miroir (M3) est, de préférence, concave. Le système forme, de préférence, une image (IM) avec une ouverture numérique supérieure à 0,18.
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Designated States: JP, KR, US
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)