(EN) The invention relates to optical engineering, in particular to methods for measuring a microrelief, the distribution of optical material constants of a near-surface layer and can be used for microelectronic engineering, nanotechnology, material science, medicine and biology. The aim of the invention is to improve spatial resolution for measuring geometrical parameters of the relief and the distribution of the optical material constants, extend the range of defined constants including optical anisotropy constants, significantly increasing the accuracy of definition of the material constant and extending the number of objects studied. The inventive method for mesuring microrelief and optical characteristics of the near-surface layer and a modulation interference microscope for carrying out said method are also disclosed.
(FR) La présente invention concerne l'optique, en particulier des procédés pour mesurer le microrelief et déterminer la distribution des constantes optiques matérielles d'une couche près de la surface d'un objet; elle peut s'utiliser dans des recherches en micro-électronique, en nanotechnologie, en science des matériaux, en médecine et en biologie. Le but de l'invention est d'élargir, d'une part, la résolution spatiale pendant la détermination des paramètres géométriques du relief et, d'autre part, la distribution des constantes optiques matérielles, d'augmenter le nombre de constantes à déterminer, y compris les constantes d'anisotropie optique, d'améliorer sensiblement l'exactitude de mesure des constantes matérielles et d'élargir le cercle d'objets étudiés. Un procédé de mesure du microrelief d'un objet et des caractéristiques optiques de la couche près de la surface ainsi qu'un microscope interférentiel à modulation sont également présentés.
