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1. WO2002042728 - METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING ABERRATION OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND METHOD AND APPARATUS FOR EXPOSURE

Publication Number WO/2002/042728
Publication Date 30.05.2002
International Application No. PCT/JP2001/010154
International Filing Date 21.11.2001
Chapter 2 Demand Filed 18.06.2002
IPC
G01M 11/02 2006.01
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
11Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
02Testing optical properties
CPC
G01M 11/0264
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
11Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
02Testing optical properties
0242by measuring geometrical properties or aberrations
0257by analyzing the image formed by the object to be tested
0264by using targets or reference patterns
G01M 11/0271
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
11Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
02Testing optical properties
0242by measuring geometrical properties or aberrations
0271by using interferometric methods
Applicants
  • NIKON CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • SHIRAISHI, Naomasa [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventors
  • SHIRAISHI, Naomasa
Agents
  • OMORI, Satoshi
Priority Data
2000-35938827.11.2000JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING ABERRATION OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND METHOD AND APPARATUS FOR EXPOSURE
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE MESURER LES ABERRATIONS D'UN SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION ET PROCEDE ET DISPOSITIF D'EXPOSITION
Abstract
(EN)
A method and an apparatus for measuring aberration of a projection optical system with high accuracy. A micro measuring pattern (10a) and a large measuring pattern (10b) on a reticle (9) are irradiated with illumination lights having incoherence. Light flux transmitted the measuring patterns (10a and 10b) further transmit respective projection optical systems (PL) to be measured to form the image of the measuring patterns on a large reference pattern (13a) and a micro reference pattern (13b) on a reference pattern plate (12). Light flux transmitted the reference patterns (13a and 13b) pass through a lens system (15) to form an interference fringe on an imaging element (16). Wave front aberration of the projection optical system is measured from the state of the interference fringe.
(FR)
L'invention concerne un procédé et un dispositif permettant de mesurer les aberrations dans un système optique de projection haute précision. Ce procédé consiste à éclairer un micro-motif (10a) de mesure et un motif (10b) de mesure de grande dimension formés sur un réticule avec des faisceaux lumineux présentant des incohérences. Le flux lumineux passe à travers les motifs (10a, 10b) de mesure puis à travers les systèmes (PL) optiques de projection respectifs devant être mesurés, afin de projeter une image des motifs de mesure sur un motif (13a) de référence de grande dimension, et un micro-motif (13b) de référence formés sur une plaque (12) de motifs de référence. Le flux lumineux transmis par les motifs (13a, 13b) de référence est envoyé à travers un système (15) de lentilles afin de former une frange d'interférence sur un élément (16) imageur. Les aberrations du front d'onde du système optique de projection sont mesurées à partir de l'état de cette frange d'interférence.
Also published as
Latest bibliographic data on file with the International Bureau