WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2002033490) METHOD AND APPARATUS FOR DEVELOPING PHOTOSENSITIVE RESIN RELIEF PRINTING PLATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/033490    International Application No.:    PCT/JP2001/008856
Publication Date: 25.04.2002 International Filing Date: 09.10.2001
IPC:
G03F 7/30 (2006.01)
Applicants: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 2-6, Dojimahama 1-chome, Kita-ku Osaka-shi, Osaka 530-8205 (JP) (For All Designated States Except US).
FUJII, Hirotatsu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: FUJII, Hirotatsu; (JP)
Agent: ASAMURA, Kiyoshi; Room 331, New Ohtemachi Bldg., 2-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-0004 (JP)
Priority Data:
2000-314201 13.10.2000 JP
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DEVELOPING PHOTOSENSITIVE RESIN RELIEF PRINTING PLATE
(FR) PROCEDE ET APPAREIL PERMETTANT DE DEVELOPPER UNE PLAQUE D"IMPRESSION EN RELIEF EN RESINE PHOTOSENSIBLE
Abstract: front page image
(EN)A method for developing a photosensitive resin relief printing plate which comprises directing a high pressure jet of an aqueous developing solution having a temperature of 40°C or higher, which may be only water or a two-phase mixture of water with a gas (a water pressure of 1 to 30 Mpa, a gas pressure of 1 Mpa or more), to the surface of the photosensitive resin relief printing plate having been exposed so as to have a given pattern, to thereby carry out development, separating a hydrophobic photosensitive resin contaminated in the resulting used developing solution by filtration or the like, and circulating the filtrate to reuse as a developing solution. The method allows the reduction of the cost for waste water disposal in the above-mentioned development through the use of an aqueous developing solution containing no surfactants and the circulation of the developing solution for reuse.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant de développer une plaque d"impression en relief en résine photosensible qui consiste à diriger un jet à haute pression d"une solution de révélateur aqueux ayant une température supérieure ou égale à 40, qui peut être composée uniquement d"eau ou d"un mélange à deux phases d"eau et de gaz (la pression de l"eau étant comprise entre 1 et 30 Mpa et la pression du gaz étant supérieure ou égale à 1 Mpa), sur la surface de la plaque d"impression en relief en résine photosensible qui a été exposée de manière à présenter un motif donné, pour effectuer ainsi le développement; à séparer par filtration ou autre, une résine photosensible hydrophobe contaminée se trouvant dans la solution de révélateur utilisée résultante et à faire circuler le filtrat afin de le réutiliser en tant que solution de révélateur. Ce procédé permet de réduire le coût lié à l"élimination des eux usées dans le développement mentionné plus haut du fait qu"on utilise une solution de révélateur aqueuse ne contenant pas de tensioactif et qu"on fait circuler la solution de révélateur pour la réutiliser ensuite.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)