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1. (WO2002033489) COMPOSITIONS FOR MICROLITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/033489    International Application No.:    PCT/US2001/042743
Publication Date: 25.04.2002 International Filing Date: 16.10.2001
Chapter 2 Demand Filed:    13.05.2002    
IPC:
C08F 232/08 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Applicants: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US/US]; 1007 Market Street Wilmington, DE 19898 (US) (For All Designated States Except US).
BERGER, Larry, L. [US/US]; (US) (For US Only).
CRAWFORD, Michael, Karl [US/US]; (US) (For US Only).
FELDMAN, Jerald [US/US]; (US) (For US Only).
JOHNSON, Lynda, Kaye [US/US]; (US) (For US Only).
SCHADT, III, Frank, L. [US/US]; (US) (For US Only).
ZUMSTEG, JR., Fredrick, Claus [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BERGER, Larry, L.; (US).
CRAWFORD, Michael, Karl; (US).
FELDMAN, Jerald; (US).
JOHNSON, Lynda, Kaye; (US).
SCHADT, III, Frank, L.; (US).
ZUMSTEG, JR., Fredrick, Claus; (US)
Agent: SINNOTT, Jessica, M.; E. I. Du Pont De Nemours And Company Legal Patent Records Center 4417 Lancaster Pike Wilmington, DE 19805 (US)
Priority Data:
09/691,280 18.10.2000 US
Title (EN) COMPOSITIONS FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) COMPOSITIONS POUR MICROLITHOGRAPHIE
Abstract: front page image
(EN)A fluorine-containing polymer prepared from at least a spacer group selected from the group consisting of ethylene, alpha-olefins, 1,1'-disubstituted olefins, vinyl alcohols, vinyl ethers, and 1,3-dienes; and a norbornyl radical containing a functional group containing the structure: -C(R¿f?)(R¿f'?)Or¿b? wherein R¿f? and R¿f'? are the same or different fluoroalkyl groups of from 1 to about 10 carbon atoms or taken together are (CF¿2?)¿n? wherein n is an integer ranging from 2 to about 10 and R¿b? is a hydrogen atom or an acid- or base-labile protecting group; r is an integer ranging from 0-4. The fluorine-containing polymer has an absorption coefficient of less than 4.0 mm-?1¿ at a wavelength of 157 nm. These polymers are useful in photoresist compositions for microlithography. They exhibit high transparency at this short wavelength and also possess other key properties, including good plasma etch resistance and adhesive properties.
(FR)L'invention concerne un polymère à teneur en fluor préparé à partir d'au moins un groupe espaceur choisi dans le groupe comprenant l'éthylène; des alpha-oléfines; des oléfines à substitution double 1,1'; des alcools vinyliques, des éthers vinyliques; et des 1,3-dienes; et un radical norbornyle contenant un groupe fonctionnel comprenant la structure: -C(R¿f?)(R¿f'?)OR¿b?, dans laquelle R¿f? et R¿f'? sont des groupes fluoroalkyle identiques ou différents composés d'un à environ 10 atomes de carbone, ou encore, forment ensemble (CF¿2?)¿n?, dans laquelle n est un entier relatif compris entre environ 2 et environ 10 et R¿b? représente un atome d'hydrogène ou un groupe protecteur acide ou basique instable; r est un entier relatif compris entre 0 et 4. Le polymère à teneur en fluor présente un coefficient d'absorption inférieur à 4,0 mm-?1¿ à une longueur d'onde de 157 nm. Ces polymères sont utiles dans des compositions photosensibles destinées à la microlithographie. Ils présentent d'excellentes propriétés de transparence à cette longueur d'onde courte, ainsi que des propriétés clés, telles qu'une bonne résistance à la gravure par plasma et un bon pouvoir adhésif.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)