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1. (WO2002033352) METHOD AND DEVICE FOR SHAPE MEASUREMENT, METHOD AND DEVICE FOR EXPOSURE, CONTROL PROGRAM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/033352    International Application No.:    PCT/JP2001/009220
Publication Date: 25.04.2002 International Filing Date: 19.10.2001
Chapter 2 Demand Filed:    20.05.2002    
IPC:
G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW only).
YOSHIDA, Kouji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUGIHARA, Tarou [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YOSHIDA, Kouji; (JP).
SUGIHARA, Tarou; (JP)
Agent: TATEISHI, Atsuji; Paseo Building 5th floor 4-20, Haramachida 5-chome Machida-shi, Tokyo 194-0013 (JP)
Priority Data:
2000-319627 19.10.2000 JP
2001-136865 08.05.2001 JP
Title (EN) METHOD AND DEVICE FOR SHAPE MEASUREMENT, METHOD AND DEVICE FOR EXPOSURE, CONTROL PROGRAM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MESURE DE FORME, PROCEDE ET DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROGRAMME DE COMMANDE, ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)A shape measuring method, comprising the steps of statistically processing, by a parameter calculating device using a least square method, the position information on shape feature points larger in number than shape parameters specifying the shape of an object measured by a position measuring device so as to calculate the estimated values of the shape parameters such as the center position and radius of a circle (steps 111 and 112), whereby the statistically reasonable estimated values of the shape parameters can be provided even if chipping or projection occurs accidentally at some positions of the shape feature points to be measured or noise is superimposed accidentally on the results of the measurements.
(FR)L'invention concerne un procédé de mesure de forme comprenant les étapes consistant à traiter de manière statistique, au moyen d'un dispositif de calcul de paramètres et de la méthode des moindres carrés, des informations de position sur des points de caractéristiques de forme, supérieurs en nombre aux paramètres de forme spécifiant la forme d'un objet mesuré par un dispositif de mesure de position, de manière à calculer les valeurs estimées des paramètres de forme, tels que la position centrale et le rayon d'un cercle (étapes 111 et 112); ainsi, grâce à ce procédé, il est possible de fournir les valeurs estimées, statistiquement raisonnables, des paramètres de forme, même si un effritement ou une projection se produit accidentellement au niveau de certaines positions des points de caractéristiques de formes à mesurer, ou si le bruit est accidentellement superposé sur les résultats de ces mesures.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)