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1. (WO2002031870) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER COMPRISING THE PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING APPARARTUS COMPRISING THE ALIGNER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/031870    International Application No.:    PCT/JP2001/008886
Publication Date: 18.04.2002 International Filing Date: 10.10.2001
Chapter 2 Demand Filed:    26.04.2002    
IPC:
G02B 13/14 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-Chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (KR only).
SHIGEMATSU, Koji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUMOTO, Koichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIGEMATSU, Koji; (JP).
MATSUMOTO, Koichi; (JP)
Agent: KAMEYA, Yoshiaki; KANEMOTO, KAMEYA, HAGIWARA AND INOUE YOTSUYA BRANCH Daiichi Tomizawa Building, 1-3, Yotsuya 3-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0004 (JP)
Priority Data:
2000-310266 11.10.2000 JP
Title (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER COMPRISING THE PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING APPARARTUS COMPRISING THE ALIGNER
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, ALIGNEUR COMPORTANT LEDIT SYSTEME ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN APPAREIL COMPORTANT LEDIT ALIGNEUR
Abstract: front page image
(EN)A compact and high-performance projection optical system which can correct aberrations very satisfactorily while attaining an image side telecentricity over the whole exposure region and securing a sufficiently large numerical aperture (NA) and a wide exposure region and an aligner comprising the optical system. The projection optical system (PL) projects the image of a reticle (R) illuminated by an illumination optical apparatus (IS) onto a wafer (W). The projection optical system (PL) has NA-determining aperture diaphragms (AS1, AS2) at positions close to the pupil position in the optical system, and the aperture diaphragms (AS1, AS2) are so disposed as to become telecentric on the wafer (W) side. At least one of the aperture diaphragms (AS1, AS2) can change the size of its aperture and can move in the axial direction.
(FR)Système optique de projection compact et à hautes performances qui peut corriger les aberrations de manière très satisfaisante tout en atteignant une télécentricité du côté d'image sur toute la zone d'exposition et en assurant une ouverture numérique (NA) suffisamment grande et une large zone d'exposition. La présente invention concerne également un aligneur comportant ledit système. Ce système de projection optique (PL) projette l'image d'un réticule (R) illuminé par un appareil optique d'éclairage (IS) sur une tranche (W). Le système de projection optique (PL) possède des diaphragmes d'ouverture (AS1, AS2) qui déterminent NA à des positions proches de la position de la pupille dans le système optique et les diaphragmes d'ouverture (AS1, AS2) sont disposés de manière à devenir télécentriques du côté tranche (W). Au moins un des diaphragmes d'ouverture (AS1, AS2) peut modifier la taille de son ouverture et peut se déplacer dans le sens axial.
Designated States: KR, US.
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)