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1. (WO2002031862) DEVICE FOR FAST AND UNIFORM HEATING OF A SUBSTRATE WITH INFRARED RADIATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/031862    International Application No.:    PCT/FR2001/003171
Publication Date: 18.04.2002 International Filing Date: 12.10.2001
IPC:
H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: JOINT INDUSTRIAL PROCESSORS FOR ELECTRONICS [FR/FR]; 20, rue de la Croix Fleurie Boîte postale 11 F-72430 Noyen sur Sarthe (FR) (For All Designated States Except US).
DUCRET, René, Pierre [FR/FR]; (FR) (For US Only).
LAPORTE, Franck [FR/FR]; (FR) (For US Only).
PIERRET, Benoit [FR/FR]; (FR) (For US Only).
SEMMACHE, Bachir [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: DUCRET, René, Pierre; (FR).
LAPORTE, Franck; (FR).
PIERRET, Benoit; (FR).
SEMMACHE, Bachir; (FR)
Agent: HECKE, Gérard; Cabinet Hecke WTC Europole 5, place Robert Schuman Boîte postale 1537 F-38025 Grenoble Cedex 1 (FR)
Priority Data:
00/13182 13.10.2000 FR
Title (EN) DEVICE FOR FAST AND UNIFORM HEATING OF A SUBSTRATE WITH INFRARED RADIATION
(FR) DISPOSITIF DE CHAUFFAGE RAPIDE ET UNIFORME D"UN SUBSTRAT PAR RAYONNEMENT INFRAROUGE
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns a heating device comprising infrared radiation lamps (24, 26) for providing a fast heat treatment of a substrate (12) inside a reaction chamber (14) with transparent window (34). The infrared lamps (24, 26) are distributed on two superimposed stages (A, B) extending on a common side of the substrate (12), the lamps (24) of the lower stage (A) being arranged perpendicular relative to the lamps (26) of the upper stage (B). Means adjusting power input for each unit of lamps provide more heat on the edges than at the centre of the substrate (12). A reflector (36) is configured as a distribution grid (38) designed to reflect the infrared radiation to control the power ratios between the different heating zones. Thus the substrate (12) is uniformly heated, whatever its shape and its dimensions.
(FR)Un dispositif de chauffage comprend des lampes à rayonnement infrarouge 24, 26 destinées à assurer un traitement thermique rapide d"un substrat 12 à l"intérieur d"une chambre de réaction 14 à hublot 34 transparent. Les lampes à infrarouge 24, 26 sont réparties sur deux étages A, B superposés en s"étendant d"un même côté du substrat 12, les lampes 24 de l"étage inférieur A étant disposées perpendiculairement par rapport aux lampes 26 de l"étage supérieur B. Des moyens de réglage de la puissance d"alimentation par groupes de lampes assurent un chauffage plus important sur les bords qu"au centre du substrat 12. Un réflecteur 36 est conformé selon une grille de répartition 38 destinée à réfléchir le rayonnement infrarouge pour contrôler les ratios de puissance entre les différentes zones de chauffe. Il en résulte un chauffage uniforme du substrat 12, indépendamment de sa géométrie et de ses dimensions.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)