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1. (WO2002030580) MASKING MATERIAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/030580    International Application No.:    PCT/JP2001/008771
Publication Date: 18.04.2002 International Filing Date: 04.10.2001
Chapter 2 Demand Filed:    30.04.2002    
IPC:
B05B 15/04 (2006.01)
Applicants: NAGOYA OILCHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 213-5, Honowari, Minamishibata-cho Tokai-shi, Aichi 476-0001 (JP) (For All Designated States Except US).
OGAWA, Masanori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ITO, Kuninori [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OGAWA, Masanori; (JP).
ITO, Kuninori; (JP)
Agent: USAMI, Tadao; No. 102, 32, Tsukimigaoka, Yatomi-cho, Mizuho-ku Nagoya-shi, Aichi 467-0035 (JP)
Priority Data:
2000-310587 11.10.2000 JP
2001-164643 31.05.2001 JP
Title (EN) MASKING MATERIAL
(FR) MATIERE DE MASQUAGE
Abstract: front page image
(EN)A masking material which has high heat resistance and is repeatedly usable. The masking material (11) comprises a polymer alloy obtained by blending an engineering plastic selected from the group consisting of a methylpentene copolymer, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether, polyamide-imide, polyetherimide, and polyetheretherketone with a polyamide and/or polystyrene and with a thermoplastic styrene elastomer in order to improve moldability of the engineering plastic and affinity for the coating film obtained therefrom.
(FR)L'invention concerne une matière de masquage présentant une grande résistance à la chaleur et pouvant être utilisée de façon répétée. Cette matière de masquage (11) comprend un alliage polymère obtenu par mélange d'un plastique industriel choisi dans le groupe comprenant un copolymère de méthylpentène, la polysulfone, la polyéthersulfone, le sulfure de polyphénylène, l'éther de polyphénylène, le polyamide-imide, le polyétherimide et la polyéthercétone avec un polyamide et/ou un polystyrène et avec un élastomère styrénique thermoplastique, destinés à améliorer l'aptitude au moulage du plastique industriel et la facilité de former un film de revêtement avec celui-ci.
Designated States: AU, CA, CN, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)