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1. (WO2002029877) VACUUM PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/029877    International Application No.:    PCT/JP2001/008624
Publication Date: 11.04.2002 International Filing Date: 01.10.2001
Chapter 2 Demand Filed:    26.04.2002    
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (For All Designated States Except US).
IMAFUKU, Kosuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HIDA, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: IMAFUKU, Kosuke; (JP).
HIDA, Tsuyoshi; (JP)
Agent: KAMEYA, Yoshiaki; KANEMOTO, KAMEYA, HAGIWARA AND INOUE YOTSUYA BRANCH Daiichi Tomizawa Building, 1-3, Yotsuya 3-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0004 (JP)
Priority Data:
2000-302124 02.10.2000 JP
Title (EN) VACUUM PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR DEPRESSION
Abstract: front page image
(EN)A vacuum processing device which facilitates maintenance of the device and makes it possible to prolong the maintenance cycle and to improve throughput. A processing chamber (2) and a preliminary vacuum chamber (3) are connected by a conveyance port (20) formed in a wall surface. Installed on the inner wall surface of the conveyance port (20) is a removable gate liner (100) composed of a plurality of members. During maintenance of the inner wall surface of the conveyance port, the gate liner (100) alone is removed for cleaning, exchange or the like; thus, the operation is easy. The surface of the gate liner (100) and the surface of a gate valve (4) covering the conveyance port (20) have applied thereto insulating films (200, 300) formed of sprayed coating of rare earth oxide having a high resistance to plasma erosion. Therefore, these surfaces hardly have damage caused thereto by plasma, reducing metal pollution and dust generation.
(FR)Cette invention concerne un dispositif de traitement par dépression dont l'entretien est plus facile et plus espacé, et qui présente un meilleur débit. Une chambre de traitement (2) et une pré-chambre à vide (3) sont reliées par un conduit (20) dans une cloison. Sur la paroi intérieure du conduit (20) est disposée une chemise (100) déposable composée d'une pluralité d'éléments. Pendant l'entretien de la paroi intérieure du passage, on ne retire que la seule chemise aux fins de nettoyage, remplacement, etc. L'opération d'entretien est donc facile. La surface de la chemise (100) et celle du clapet (4) sont recouvertes par vaporisation de films isolants (200, 300) d'oxyde de terre rare qui présentent une résistance élevée à l'érosion par le plasma. Par voie de conséquence, ces surfaces présentent peu de dégâts dus au plasma, ce qui réduit la pollution par les métaux et la production de poussière.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)