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1. (WO2002029493) PHOTORESIST COMPOSITION FOR FORMING INSULATION FILM, INSULATION FILM FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND METHOD FOR ITS FORMATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/029493    International Application No.:    PCT/JP2001/004883
Publication Date: 11.04.2002 International Filing Date: 08.06.2001
Chapter 2 Demand Filed:    09.07.2001    
IPC:
C08L 61/06 (2006.01), G03F 7/022 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/312 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01), H01L 51/40 (2006.01)
Applicants: NIPPON ZEON CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8323 (JP) (For All Designated States Except US).
KASHIWAGI, Motofumi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MITAO, Noriyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KASHIWAGI, Motofumi; (JP).
MITAO, Noriyuki; (JP)
Agent: UCHIYAMA, Mitsuru; TSI Sudacho Building 8F 4-1, Kandasudacho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101-0041 (JP)
Priority Data:
2000-298678 29.09.2000 JP
Title (EN) PHOTORESIST COMPOSITION FOR FORMING INSULATION FILM, INSULATION FILM FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND METHOD FOR ITS FORMATION
(FR) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE SERVANT A CREER UNE COUCHE ISOLANTE, COUCHE ISOLANTE D'ELEMENTS ELECTROLUMINESCENTS ORGANIQUES ET PROCEDE DE CREATION
Abstract: front page image
(EN)A photoresist composition for forming an insulation film which comprises (A) an alkali-soluble resin, (B) a qunonediazidosulfonic acid ester and (C) a thermosetting component, and can provide a film having a shape whose side faces are inclined in a skirt form which shape is suitable for an insulating film for an organic electroluminescence element; an insulating film for an organic electroluminescence element having roundish upper edge portions which is prepared by forming a resist film on a substrate using the photoresist composition and then subjecting the resist film to a heat treatment; and a method for forming an insulating film on a substrate by the photolithography which comprises using the photoresist composition.
(FR)Composition de résine photosensible servant à créer une couche isolante et comprenant (A) une résine soluble dans un milieu alcalin, (B) un ester d'acide quinonediazidosulfonique et (C) un constituant thermodurcissant. Cette composition permet de préparer une couche dont les faces latérales sont inclinées, de manière à présenter une forme de jupe, ce qui est approprié pour une couche isolante d'éléments électroluminescents organiques. Couche isolante d'éléments électroluminescents organiques possédant des parties de contour supérieures pratiquement arrondies, dont la préparation consiste à créer une couche de résine photosensible sur un substrat au moyen de la composition de résine photosensible et à soumettre cette couche à un traitement thermique. Procédé servant à créer une couche isolante sur un substrat au moyen d'une opération de photolithographie consistant à mettre en application la composition de résine photosensible.
Designated States: KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)