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1. (WO2002029393) METHOD AND APPARATUS FOR ENHANCED EMBEDDED SUBSTRATE INSPECTION THROUGH PROCESS DATA COLLECTION AND SUBSTRATE IMAGING TECHNIQUES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/029393    International Application No.:    PCT/US2001/031293
Publication Date: 11.04.2002 International Filing Date: 05.10.2001
Chapter 2 Demand Filed:    06.05.2002    
IPC:
G01N 21/89 (2006.01), G01N 21/95 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventors: HUNTER, Reginald; (US)
Agent: PATTERSON, William B.,; Moser, Patterson & Sheridan, LLP, 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500, Houston, TX 77056 (US)
Priority Data:
09/680,226 06.10.2000 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR ENHANCED EMBEDDED SUBSTRATE INSPECTION THROUGH PROCESS DATA COLLECTION AND SUBSTRATE IMAGING TECHNIQUES
(FR) PROCEDE ET APPAREIL D'INSPECTION AMELIOREE D'UN SUBSTRAT ENTERRE AU MOYEN DE TECHNIQUES DE COLLECTE DE DONNEES ET D'IMAGERIE DU SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN)The present invention generally provides an apparatus and a method for inspecting a substrate in a processing system. A pair of light sources is used in conjunction with an optical receiving device, such as a camera having a CCD, to illuminate and inspect a substrate for various optical signatures. The substrate signatures are then used to generate images of obstructions in three dimensions (3-D) for further analysis. In one embodiment, the substrate is scanned in two or more directions with a first light source and then scanned in two or more directions with a second light source. A receiver captures the reflected and/or scattered signals from sources comprising two or more different images. The light illumination from the first and second light sources impinges on substrate surface obstructions from two differing angles (i.e. perspectives). Differentiation between the images is provided by either different perspective angles and/or different optical filtering configurations.
(FR)La présente invention concerne un appareil et un procédé permettant d'inspecter un substrat dans un système de traitement. Selon un aspect de l'invention, une paire de sources lumineuses est utilisée conjointement à un dispositif de réception optique, tel qu'une caméra comprenant un dispositif à couplage de charge (DCC), pour éclairer et inspecter un substrat et rechercher diverses signatures optiques. Les signatures du substrat sont ensuite utilisées pour générer des images des anomalies en trois dimensions (3D) pour une analyse ultérieure. Dans une forme de réalisation, le substrat est balayé dans au moins deux directions avec une première source de lumière puis balayé dans au moins deux directions avec une deuxième source de lumière. Un récepteur capte les signaux réfléchis et/ou diffusés par les sources qui forment deux ou plusieurs images différentes. L'illumination de la lumière provenant des première et deuxième sources de lumière heurte les anomalies superficielles du substrat depuis deux angles différents (c'est-à-dire depuis deux perspectives différentes) par conséquent, l'image provenant de la première source de lumière contient des informations concernant un côté des anomalies alors que l'image provenant de la deuxième source de lumière présente des informations concernant le côté opposé de l'anomalie. La différentiation entre les images est possible au moyen d'angles de perpective différents et/ou de configurations de filtrage optique différentes.
Designated States: JP, KR.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)