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1. (WO2002029131) METHOD FOR AUTOMATIC ORGANISATION OF MICROSTRUCTURES OR NANOSTRUCTURES AND RELATED DEVICE OBTAINED
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/029131    International Application No.:    PCT/FR2001/003073
Publication Date: 11.04.2002 International Filing Date: 05.10.2001
Chapter 2 Demand Filed:    17.04.2002    
IPC:
C23C 14/02 (2006.01), C23C 16/02 (2006.01), C30B 25/02 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 31/33, rue de la Fédération F-75752 PARIS 15ème (FR) (For All Designated States Except US).
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3 rue Michel Ange F-75794 PARIS CEDEX 16 (FR) (For All Designated States Except US).
SEMERIA, Marie-Noëlle [FR/FR]; (FR) (For US Only).
MUR, Pierre [FR/FR]; (FR) (For US Only).
FOURNEL, Franck [FR/FR]; (FR) (For US Only).
MORICEAU, Hubert [FR/FR]; (FR) (For US Only).
EYMERY, Joël [FR/FR]; (FR) (For US Only).
MAGNEA, Noël [FR/FR]; (FR) (For US Only).
BARON, Thierry [FR/FR]; (FR) (For US Only).
MARTIN, François [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: SEMERIA, Marie-Noëlle; (FR).
MUR, Pierre; (FR).
FOURNEL, Franck; (FR).
MORICEAU, Hubert; (FR).
EYMERY, Joël; (FR).
MAGNEA, Noël; (FR).
BARON, Thierry; (FR).
MARTIN, François; (FR)
Agent: LEHU, Jean; BREVATOME 3, rue du Docteur Lancereaux F-75008 PARIS (FR)
Priority Data:
00/12797 06.10.2000 FR
Title (EN) METHOD FOR AUTOMATIC ORGANISATION OF MICROSTRUCTURES OR NANOSTRUCTURES AND RELATED DEVICE OBTAINED
(FR) PROCEDE D'AUTO-ORGANISATION DE MICROSTRUCTURES OU DE NANOSTRUCTURES ET DISPOSITIF ASSOCIE OBTENU
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns a device consisting of microstructures or nanostructures on a support. The invention is characterised in that the support comprises: a substrate (1) including at least a part made of crystalline material, said part having a surface (2) exhibiting a stress field or a topology associated with a stress field, the stress field being associated with dislocations; an intermediate layer (3) integral with said surface (2) and having a thickness and/or a composition and/or a state enabling transmission of said stress field through said layer up to its free surface which bears the microstructures or nanostructures (4).
(FR)L'invention concerne un dispositif constitué de microstructures ou de nanostructures sur un support, caractérisé en ce que le support comprend: un substrat (1) comprenant au moins une partie en matériau cristallin, cette partie possédant une surface (2) présentant un champ de contrainte ou une topologie associée à un champ de contrainte, le champ de contrainte étant associé à des dislocations; une couche intermédiaire (3) solidaire de ladite surface (2) et possédant une épaisseur et/ou une composition et/ou un état de surface permettant la transmission dudit champ de contrainte à travers cette couche jusqu'à sa face libre qui supporte les microstructures ou les nanostructures (4).
Designated States: US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)