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1. (WO2002028800) 'SiAION MATERIAL AND CUTTING TOOLS MADE THEREOF'
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/028800    International Application No.:    PCT/CA2001/001385
Publication Date: 11.04.2002 International Filing Date: 01.10.2001
Chapter 2 Demand Filed:    29.04.2002    
IPC:
C04B 35/597 (2006.01)
Applicants: INDEXABLE CUTTING TOOLS OF CANADA LIMITED [CA/CA]; 66 Clark Street, Welland, Ontario L3B 5W6 (CA) (For All Designated States Except US).
ROY, Robert, Donald [CA/CA]; (CA) (For US Only).
ALLAN, David [CA/CA]; (CA) (For US Only)
Inventors: ROY, Robert, Donald; (CA).
ALLAN, David; (CA)
Agent: McKAY-CAREY, Mary Jane; McKay-Carey & Company, 2590 Commerce Place, 10155-102 Street, Edmonton, Alberta T5J 4G8 (CA)
Priority Data:
60/237,410 02.10.2000 US
Title (EN) 'SiAION MATERIAL AND CUTTING TOOLS MADE THEREOF'
(FR) MATERIAU SIAION ET OUTILS DE COUPE FABRIQUES A PARTIR DE CE DERNIER
Abstract: front page image
(EN)This invention discloses a SiAION-based ceramic particularly suited for use as a cutting tool in the high speed chip forming machining of metals. The ceramic is composed of a SiAION matrix including a) a phase of alpha' SiAION represented by the general formula of M¿x?(Si,AL)¿12?(O,N)¿16?, wherein 0
(FR)La présente invention concerne un matériau céramique à base de SiAION qui est particulièrement adapté pour être utilisé en tant qu'outil de coupe dans les processus d'usinage façonnage par ciselage à grande vitesse de métaux. Le matériau céramique est constitué d'une matrice SiAION comprenant a) une phase alpha' SiAION représentée par la formule M¿x?(Si,AL)¿12?(O,N)¿16?, dans laquelle 0<x<2 et M représente au moins deux éléments cationiques, le premier élément cationique étant Mg et facultativement un ou plusieurs constituants parmi Ca, Sr, et Ba, et le deuxième élément cationique étant un ou plusieurs Y, Sc, La et/ou un ou plusieurs éléments du groupe des terres rares; b) une phase formée de bêta' SiAION représentée par la formule Si¿6-z? AI¿z?O¿z?N¿8-z? dans laquelle 0<z<4.2; et c) un constituant contenant du verre et au moins une phase cristalline intergranulaire additionnelle qui peut être détectée à l'aide de techniques de diffraction de rayons X, la quantité du premier élément cationique étant comprise entre 0,2 et 4 pour cent en poids, calculée comme l'élément, sur la base de la matrice SiAION et la quantité du deuxième élément cationique étant comprise entre 0,5 et 15 pour cent en poids, calculée comme l'oxyde, sur la base de la matrice SiAION. Le matériau céramique présente de préférence une dureté/ténacité à la rupture par indentation qui est supérieure à 6,5 MPam?1/2¿ et une dureté supérieure à 93,5 Rockwell sur l'échelle A. Le matériau peut éventuellement contenir également une phase dispersée de matières sensiblement inertes sélectionnées parmi les oxydes, les carbures, les oxycarbures, les siliciures, les nitrures, les carbonitrures et les alliages ou les mélanges d'un ou plusieurs éléments parmi Ti, Zr, Hg, Nb, Ta, V, Cr, Mo, W, B et Si. Le matériau céramique peut être façonné sous forme d'un élément rapporté d'outil de coupe pour l'usinage des métaux. Des procédés de préparation du matériau céramique, de manière plus préférée par frittage par micro-ondes, sont également présentés. On a remarqué que le fait d'employer un frittage par micro-ondes améliore les propriétés de dureté et de ténacité tout en éliminant le recours au frittage sous pression. Le matériau céramique ou l'élément rapporté d'outil de coupe formé à partir du matériau céramique peuvent être réalisés avec un revêtement partiel ou total en matériau réfractaire dur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)