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1. (WO2002027754) AN APPARATUS FOR THE BACKSIDE GAS COOLING OF A WAFER IN A BATCH ION IMPLANTATION SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2002/027754    International Application No.:    PCT/GB2001/003795
Publication Date: 04.04.2002 International Filing Date: 23.08.2001
Chapter 2 Demand Filed:    24.04.2002    
IPC:
H01J 37/02 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
Applicants: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 55 Cherry Hill Drive Beverly, MA 01915 (US).
EATON LIMITED [GB/GB]; Norfolk Street P.O. Box 22 Worsley Road North Worsley Manchester M28 3ET (GB) (CA only)
Inventors: CHIPMAN, David, James; (US).
LAGOS, Bryan, Christopher; (US).
MITCHELL, Robert, John; (US).
ROSEN, Gary, Jay; (US).
STONE, Dale, Keith; (US)
Agent: BURKE, Steven, D.; R.G.C. Jenkins & Co. 26 Caxton Street London SW1H 0RJ (GB)
Priority Data:
09/670,241 26.09.2000 US
Title (EN) AN APPARATUS FOR THE BACKSIDE GAS COOLING OF A WAFER IN A BATCH ION IMPLANTATION SYSTEM
(FR) APPAREIL DE REFROIDISSEMENT PAR GAZ DU DOS D'UNE TRANCHE DANS UN SYSTEME D'IMPLANTATION IONIQUE DISCONTINU
Abstract: front page image
(EN)The invention provides apparatus by which a cooling gas (302) is supplied from a stationary source to the back side of batch ion implanter workpieces being implanted in a rotating or spinning batch implanter process disk (282, 380). The cooling gas (302) provides improved heat transfer from the workpieces to the process disk (282, 380), which may be advantageously combined with circulation of cooling fluid through passages in the process disk to remove heat therefrom. The invention further includes a rotary feedthrough (300) employed to transfer the cooling gas (302) from a stationary housing (210) to a gas chamber in a rotating shaft (270) which spins the batch implanter process disk (282, 380). In addition a seal apparatus is provided which seals the cooling gas (302) applied to the back sides of the workpieces from the vacuum in which the front sides of the workpieces are implanted.
(FR)L'invention concerne un appareil dans lequel une source stationnaire injecte un gaz de refroidissement (302) sur le dos des pièces d'un implanteur ionique en discontinu implantées sur le disque de traitement (282, 380) d'un implanteur en discontinu rotatif. Le gaz de refroidissement (302) permet un meilleur transfert de chaleur des pièces au disque de traitement (282, 380), lequel transfert peut être avantageusement associé à la circulation du liquide de refroidissement par les passages du disque de traitement pour dissiper la chaleur. Par ailleurs, l'invention concerne une traversée rotative (300) utilisée pour transférer le gaz de refroidissement (302) d'un logement stationnaire (210) à une chambre de gaz d'un arbre rotatif (270) qui entraîne en rotation le disque de traitement (282, 380) de l'implanteur d'ions. De plus, un appareil d'étanchéité isole le gaz de refroidissement (302), appliqué sur le dos des pièces, du vide dans lequel les parties avant des pièces sont implantées.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)